| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-14页 |
| 一 DNA 电化学生物传感器 | 第9-11页 |
| 1 DNA 杂交电化学生物传感器 | 第9页 |
| 2 DNA 损伤电化学生物传感器 | 第9-11页 |
| 二 抗氧剂 | 第11-13页 |
| 1 抗氧剂的定义及分类 | 第11页 |
| 2 抗氧剂的抗氧化机理 | 第11-12页 |
| 3 抗氧剂电化学生物传感器 | 第12-13页 |
| 4 抗氧化性研究的其他方法 | 第13页 |
| 三 论文工作的主要内容 | 第13-14页 |
| 第二章 DNA 在 CS/ds-DNA/Hb/MWCNTs 膜内的电化学行为 | 第14-21页 |
| 一 引言 | 第14页 |
| 二 试验部分 | 第14-15页 |
| 1 试剂与仪器 | 第14-15页 |
| 2 试验方法 | 第15页 |
| ·电化学交流阻抗法(EIS) | 第15页 |
| ·循环伏安法(CV) | 第15页 |
| ·方波伏安法(SWV) | 第15页 |
| 三 结果与讨论 | 第15-20页 |
| 1 CS/ds-DNA/Hb/MWCNTs/GCE 修饰电极的制备 | 第15页 |
| 2 不同膜修饰电极的 EIS 谱图 | 第15-17页 |
| 3 ds-DNA 在不同复合膜内的电化学行为 | 第17-18页 |
| 4 底液 pH 值对膜内 ds-DNA 电化学行为的影响 | 第18-19页 |
| 5 修饰剂用量对 ds-DNA 电化学行为的影响 | 第19页 |
| 6 修饰电极的稳定性及重复性 | 第19-20页 |
| 四 结论 | 第20-21页 |
| 第三章 DNA 在 CS/ds-DNA/Hb/MWCNTs 膜内的氧化损伤及 AA 抗氧性检测 | 第21-33页 |
| 一 引言 | 第21-22页 |
| 二 试验部分 | 第22-24页 |
| 1 试剂和仪器 | 第22页 |
| 2 CS/ds-DNA/Hb/MWCNTs/GCE 复合膜的制备 | 第22-23页 |
| 3 ds-DNA 损伤及抗坏血酸抗氧化性的检测 | 第23-24页 |
| 4 试验方法 | 第24页 |
| ·电化学法 | 第24页 |
| ·紫外可见吸收光谱法 (UV-vis) | 第24页 |
| 三 结果与讨论 | 第24-32页 |
| 1 修饰电极的电化学表征 | 第24-25页 |
| 2 阴极处理过程 H2O2的检测 | 第25-26页 |
| 3 循环伏安法检测 DNA 损伤 | 第26-27页 |
| 4 AA 抗氧化活性的电化学检测 | 第27-28页 |
| 5 实验条件的优化 | 第28-30页 |
| 6 传感器的稳定性与重现性 | 第30页 |
| 7 UV-vis 检测 DNA 损伤 | 第30-31页 |
| 8 AA 抗氧化性能的 UV-vis 检测 | 第31-32页 |
| 四 结论 | 第32-33页 |
| 第四章 CS/ds-DNA/Ag-PGL 复合膜的构建及果粒橙与 AA 抗氧化活性比较 | 第33-45页 |
| 一 引言 | 第33-34页 |
| 二 试验部分 | 第34-36页 |
| 1 仪器和试剂 | 第34页 |
| 2 传感器的构建 | 第34-35页 |
| 3 ds-DNA 损伤及抗氧化性的检测 | 第35页 |
| 4 试验方法 | 第35-36页 |
| ·电化学法 | 第35-36页 |
| ·UV-vis 法 | 第36页 |
| 三 结果与讨论 | 第36-44页 |
| 1 Ag 掺杂 L-谷氨酸(Ag-PGL)复合膜的制备 | 第36-37页 |
| 2 Ag-PGL 复合膜及膜修饰电极的表征 | 第37-38页 |
| ·Ag-PGL 聚合膜的形貌 | 第37页 |
| ·电极修饰过程的表征 | 第37-38页 |
| 3 ds-DNA 损伤的电化学检测 | 第38-39页 |
| 4 抗氧化性能的电化学检测 | 第39-40页 |
| 5 实验条件的优化 | 第40-42页 |
| 6 修饰电极的重现性和稳定性 | 第42页 |
| 7 ds-DNA 损伤及抗氧化性能的 UV-vis 法检测 | 第42-44页 |
| ·ds-DNA 损伤的 UV-vis 检测 | 第42-43页 |
| ·AA 和果粒橙抗氧化性的比较 | 第43-44页 |
| 四 结论 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-54页 |
| 在校期间的研究成果及发表的论文 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55页 |
