深紫外低偏振光学薄膜的研究
| 致谢 | 第1-7页 |
| 摘要 | 第7-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 目次 | 第11-14页 |
| 1 绪论 | 第14-33页 |
| ·光学薄膜的发展 | 第14-15页 |
| ·深紫外薄膜的发展与现状 | 第15-22页 |
| ·深紫外薄膜的应用背景 | 第15-16页 |
| ·深紫外薄膜的材料选择 | 第16-18页 |
| ·制备方法的发展 | 第18-21页 |
| ·薄膜损伤问题的研究 | 第21-22页 |
| ·薄膜诱导的残余偏振 | 第22-23页 |
| ·原子层沉积技术 | 第23-27页 |
| ·ALD的概念及发展历史 | 第23-25页 |
| ·ALD在制备光学薄膜的优势与难点 | 第25-27页 |
| ·本论文研究内容以及创新点 | 第27-29页 |
| 参考文献 | 第29-33页 |
| 2 薄膜诱导偏振像差分析 | 第33-50页 |
| ·前言 | 第33-34页 |
| ·薄膜诱导偏振的改变 | 第34-37页 |
| ·薄膜诱导偏振像差的分析 | 第37-40页 |
| ·深紫外光刻系统中减反膜的残余偏振 | 第40-47页 |
| ·193nm减反膜诱导偏振态的改变 | 第40-44页 |
| ·193nm减反膜诱导偏振像差的计算 | 第44-47页 |
| ·结论 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
| 3 深紫外低偏振减反膜研究 | 第50-81页 |
| ·前言 | 第50-51页 |
| ·材料的光学性能研究 | 第51-62页 |
| ·MgF_2单层膜 | 第51-57页 |
| ·LaF3单层膜 | 第57-62页 |
| ·深紫外低偏振减反膜实验研究 | 第62-69页 |
| ·光学特性测试 | 第62-66页 |
| ·应力测试 | 第66-69页 |
| ·激光损伤性能 | 第69-74页 |
| ·结论 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 4 原子层沉积技术及其在深紫外薄膜中的应用 | 第81-128页 |
| ·前言 | 第81-82页 |
| ·原子层沉积机理 | 第82-84页 |
| ·ALD制备氧化物薄膜 | 第84-96页 |
| ·TiO_2和Al_2O_3单层膜特性 | 第86-92页 |
| ·HfO_2单层膜特性 | 第92-96页 |
| ·ALD制备氧化物多层膜研究 | 第96-113页 |
| ·单点减反膜的制备 | 第96-97页 |
| ·高精度宽带减反(BBAR)膜的制备 | 第97-105页 |
| ·Rugate滤光片的制备 | 第105-112页 |
| ·小结 | 第112-113页 |
| ·DUV薄膜的制备 | 第113-119页 |
| ·氧化物DUV薄膜的制备 | 第113-116页 |
| ·氟化物DUV薄膜的制备 | 第116-119页 |
| ·结论 | 第119-121页 |
| 参考文献 | 第121-128页 |
| 5 总结和展望 | 第128-130页 |
| 作者简历 | 第130页 |
| 博士期间发表论文目录 | 第130-131页 |
| 博士期间申请专利目录 | 第131-132页 |
