| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 1 绪论 | 第11-27页 |
| ·研究背景 | 第11页 |
| ·超级电容器概况 | 第11-18页 |
| ·超级电容器工作原理和结构 | 第12-16页 |
| ·超级电容器的发展和特点及应用 | 第16-18页 |
| ·超级电容器微电极制备的国内外研究现状 | 第18-24页 |
| ·柱状微电极 | 第20-21页 |
| ·片状微电极 | 第21-22页 |
| ·梳齿微电极 | 第22-23页 |
| ·圆筒状微电极 | 第23-24页 |
| ·研究目标和研究内容 | 第24-25页 |
| ·研究目标 | 第24页 |
| ·主要研究内容 | 第24-25页 |
| ·本章小结 | 第25-27页 |
| 2 超级电容器三维微电极阵列结构设计 | 第27-45页 |
| ·电极结构对电容器性能的影响 | 第27-28页 |
| ·三维微电极阵列的有限元分析 | 第28-38页 |
| ·三维微电极阵列的电场模拟 | 第28-34页 |
| ·电极高度的影响 | 第34-35页 |
| ·电极间距的影响 | 第35-36页 |
| ·电极尺寸的影响 | 第36-37页 |
| ·电极形状的影响 | 第37-38页 |
| ·三维微电极阵列结构参数优化 | 第38-44页 |
| ·结构参数优化 | 第38-43页 |
| ·优化结果 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 3 超级电容器三维微电极阵列结构制备 | 第45-67页 |
| ·基于 MEMS 技术的三维微结构制备技术 | 第45-47页 |
| ·厚胶光刻技术 | 第45-46页 |
| ·感应耦合等离子体刻蚀技术 | 第46-47页 |
| ·基于硅基 SU-8 胶的三维微电极阵列结构 | 第47-58页 |
| ·关键加工工艺 | 第48-49页 |
| ·制备 | 第49-50页 |
| ·表征 | 第50-51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-58页 |
| ·体硅三维微电极阵列结构 | 第58-65页 |
| ·制备 | 第59-60页 |
| ·表征 | 第60页 |
| ·结果与讨论 | 第60-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 4 超级电容器三维微电极阵列结构表面功能膜制备及电极表征 | 第67-93页 |
| ·三维微电极阵列结构表面功能薄膜制备 | 第67-70页 |
| ·电化学沉积 | 第67-68页 |
| ·设备和材料 | 第68页 |
| ·氧化锰功能薄膜制备 | 第68-69页 |
| ·氧化钌功能薄膜制备 | 第69页 |
| ·聚苯胺功能薄膜制备 | 第69-70页 |
| ·超级电容器三维微电极阵列表征 | 第70-91页 |
| ·柱状微电极阵列 | 第70-79页 |
| ·条状微电极阵列 | 第79-84页 |
| ·梳齿状微电极阵列 | 第84-88页 |
| ·硅基井状微电极阵列 | 第88-91页 |
| ·本章小结 | 第91-93页 |
| 5 微型超级电容器 | 第93-103页 |
| ·微型超级电容器制备关键技术 | 第93-94页 |
| ·电极分离 | 第93页 |
| ·电容器封装 | 第93-94页 |
| ·微型超级电容器正负电极阵列制备 | 第94-95页 |
| ·设备和材料 | 第94页 |
| ·正负电极结构分离 | 第94-95页 |
| ·氧化锰功能薄膜制备 | 第95页 |
| ·微型超级电容器胶体电解质制备与封装 | 第95-96页 |
| ·设备和材料 | 第95页 |
| ·微型超级电容器的胶体电解质制备 | 第95-96页 |
| ·微型超级电容器封装 | 第96页 |
| ·微型超级电容器表征 | 第96-101页 |
| ·微型超级电容器的循环伏安特性 | 第96-97页 |
| ·微型超级电容器的恒流充放电特性 | 第97-98页 |
| ·微型超级电容器的交流阻抗特性 | 第98-99页 |
| ·微型超级电容器的循环性能 | 第99-100页 |
| ·微型超级电容器的漏电流特性 | 第100-101页 |
| ·微型超级电容器的自放电特性 | 第101页 |
| ·本章小结 | 第101-103页 |
| 6 总结 | 第103-105页 |
| ·研究工作总结 | 第103-104页 |
| ·论文的创新点 | 第104页 |
| ·有待解决的问题 | 第104-105页 |
| 致谢 | 第105-107页 |
| 参考文献 | 第107-119页 |
| 附录 | 第119页 |
| 作者在攻读博士学位期间发表论文 | 第119页 |