高频电磁水处理器的电磁场分析及实验研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 1 绪论 | 第9-17页 |
| ·课题研究的背景和意义 | 第9-10页 |
| ·国内外研究现状 | 第10-14页 |
| ·化学法 | 第10页 |
| ·物理法 | 第10-12页 |
| ·机理研究 | 第12-14页 |
| ·高频电磁水处理器 | 第14-15页 |
| ·高频信号发生器 | 第14-15页 |
| ·处理腔 | 第15页 |
| ·论文的研究内容和方法 | 第15-17页 |
| 2 水垢的形成机理 | 第17-23页 |
| ·水分子特性与结构 | 第17-18页 |
| ·水垢的形成过程及影响因素 | 第18-21页 |
| ·晶核形成 | 第18-19页 |
| ·晶体生长 | 第19-20页 |
| ·晶体聚集 | 第20页 |
| ·水垢形成过程的影响因素 | 第20-21页 |
| ·本章小结 | 第21-23页 |
| 3 高频电磁水处理器的电磁场分析 | 第23-45页 |
| ·处理腔电磁场的准静态近似法 | 第23-27页 |
| ·处理腔结构简介 | 第23-24页 |
| ·处理腔电磁场的准静态近似法 | 第24-27页 |
| ·处理腔的电磁场理论分析 | 第27-34页 |
| ·同轴式处理腔 | 第28-31页 |
| ·螺线管式处理腔 | 第31-34页 |
| ·Ansoft Maxwell 软件介绍 | 第34-40页 |
| ·仿真的数学模型 | 第36-37页 |
| ·建立模型及设定模型材料属性 | 第37页 |
| ·设定边界条件与激励源 | 第37-39页 |
| ·网络剖分 | 第39页 |
| ·求解分析 | 第39-40页 |
| ·后处理结果输出及显示 | 第40页 |
| ·处理腔的电磁场仿真分析 | 第40-43页 |
| ·处理腔电磁场分布对比分析 | 第41-42页 |
| ·处理腔电磁能量分布对比分析 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 4 阻垢除垢实验 | 第45-69页 |
| ·实验装置 | 第45-47页 |
| ·高频信号发生器 | 第46页 |
| ·处理腔 | 第46-47页 |
| ·参数检测系统 | 第47页 |
| ·实验方法 | 第47-52页 |
| ·实验准备 | 第47页 |
| ·实验步骤 | 第47-48页 |
| ·钙离子浓度的测量 | 第48-49页 |
| ·电导率的测定 | 第49-50页 |
| ·PH 值的测量 | 第50页 |
| ·粒度大小分析 | 第50-51页 |
| ·晶体形貌的扫描电镜（SEM）观察 | 第51-52页 |
| ·阻垢率分析 | 第52页 |
| ·高频信号频率改变的阻垢实验 | 第52-62页 |
| ·对钙离子浓度的影响 | 第53-54页 |
| ·对电导率的影响 | 第54-56页 |
| ·对 pH 的影响 | 第56-58页 |
| ·对碳酸钙晶体粒度的影响 | 第58-59页 |
| ·对晶体形貌的影响 | 第59-62页 |
| ·对阻垢率的影响 | 第62页 |
| ·高频信号幅值改变的阻垢实验 | 第62-64页 |
| ·对钙离子浓度影响 | 第63页 |
| ·对电导率的影响 | 第63页 |
| ·对 pH 值影响 | 第63-64页 |
| ·对阻垢率分析 | 第64页 |
| ·水质改变的阻垢实验 | 第64-66页 |
| ·扫频实验 | 第66页 |
| ·除垢实验 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 5 实验结果及阻垢除垢机理分析 | 第69-73页 |
| ·实验结果分析 | 第69-70页 |
| ·阻垢除垢机理分析 | 第70-71页 |
| ·本章小结 | 第71-73页 |
| 6 结论与展望 | 第73-75页 |
| ·结论 | 第73-74页 |
| ·展望 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-83页 |
| 附录 | 第83-89页 |
| A 实验数据 | 第83-89页 |
| B 作者在攻读学位期间发表的论文目录 | 第89页 |
