| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 致谢 | 第8-11页 |
| 插图清单 | 第11-12页 |
| 表格清单 | 第12-13页 |
| 第一章 研究背景 | 第13-16页 |
| ·自清洁材料介绍 | 第13-14页 |
| ·亲水性薄膜的发展 | 第14-16页 |
| 第二章 二氧化钛薄膜介绍 | 第16-31页 |
| ·二氧化钛结构 | 第16-17页 |
| ·二氧化钛薄膜主要性能及应用 | 第17-19页 |
| ·光催化性能 | 第17-18页 |
| ·亲水性 | 第18页 |
| ·气敏和湿敏特性 | 第18页 |
| ·杀菌性能 | 第18-19页 |
| ·光学特性 | 第19页 |
| ·血液兼容性 | 第19页 |
| ·二氧化钛薄膜光催化机理 | 第19-20页 |
| ·二氧化钛薄膜亲水性机理 | 第20-26页 |
| ·湿润性介绍 | 第20-21页 |
| ·TiO_2薄膜亲水性机理 | 第21-24页 |
| ·二氧化钛薄膜亲水性影响因素 | 第24-26页 |
| ·二氧化钛薄膜研究现状 | 第26-31页 |
| ·关于 TiO_2薄膜亲水性的研究 | 第26-29页 |
| ·有关 TiO_2薄膜光催化性能的研究 | 第29页 |
| ·有关对 TiO_2薄膜结构、光电性能的研究 | 第29-31页 |
| 第三章 二氧化钛薄膜制备、后处理及表征 | 第31-39页 |
| ·二氧化钛薄膜制备方法 | 第31-33页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第31页 |
| ·化学气相沉积（CVD） | 第31页 |
| ·磁控溅射法 | 第31-32页 |
| ·液相沉积法 | 第32页 |
| ·反应蒸发镀膜 | 第32页 |
| ·粉末涂敷法 | 第32-33页 |
| ·电纺丝（electrospinning） | 第33页 |
| ·磁控反应溅射制备薄膜 | 第33-35页 |
| ·实验材料及设备 | 第33页 |
| ·基片清洗 | 第33-35页 |
| ·薄膜后处理 | 第35-37页 |
| ·热处理 | 第35页 |
| ·等离子体辐照 | 第35-36页 |
| ·紫外光照射 | 第36-37页 |
| ·TiO_2薄膜的亲水性表征 | 第37-39页 |
| 第四章 TiO_2薄膜亲水性恢复研究 | 第39-50页 |
| ·TiO_2薄膜亲水性稳定性研究 | 第39-40页 |
| ·TiO_2薄膜亲水性减退原因 | 第39-40页 |
| ·TiO_2薄膜亲水性稳定实验 | 第40页 |
| ·热处理恢复薄膜亲水性 | 第40-44页 |
| ·热处理对薄膜结构及亲水性的影响 | 第40-41页 |
| ·空气中热处理恢复 TiO_2薄膜亲水性实验分析 | 第41-43页 |
| ·O_2中热处理对 TiO_2薄膜亲水性的影响 | 第43-44页 |
| ·小结 | 第44页 |
| ·等离子体辐照恢复薄膜亲水性 | 第44-47页 |
| ·TiO_2薄膜亲水性与 O_2等离子体辐照功率的关系 | 第44-45页 |
| ·O_2等离子体辐照恢复亲水性的时间与薄膜亲水性的关系 | 第45-46页 |
| ·N2等离子体和 O_2等离子体辐照对薄膜亲水性的影响对比 | 第46-47页 |
| ·小结 | 第47页 |
| ·紫外光照射恢复薄膜亲水性 | 第47-50页 |
| ·UV 光照 TiO_2薄膜产生亲水性机理 | 第47-48页 |
| ·UV 光照时间与薄膜亲水性之间的关系 | 第48-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 第五章 结论与展望 | 第50-52页 |
| ·结论 | 第50-51页 |
| ·展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第57-59页 |
