铝合金微弧氧化及特性电参数的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| ·研究背景、目的及意义 | 第9页 |
| ·铝合金微弧氧化技术 | 第9-15页 |
| ·铝合金微弧氧化的发展及研究现状 | 第15-16页 |
| ·目前铝合金微弧氧化技术存在的问题 | 第16-17页 |
| ·本课题研究的主要内容 | 第17-18页 |
| 第2章 实验研究方法 | 第18-25页 |
| ·实验设备和材料 | 第18-20页 |
| ·实验设备 | 第18-19页 |
| ·实验材料 | 第19-20页 |
| ·微弧氧化膜的制备 | 第20-21页 |
| ·实验技术路线 | 第20页 |
| ·微弧氧化工艺流程 | 第20-21页 |
| ·微弧氧化膜性能表征 | 第21-25页 |
| ·膜层微观形貌及化学成分分析 | 第21-22页 |
| ·膜层厚度 | 第22页 |
| ·膜层硬度 | 第22页 |
| ·膜层致密层比例 | 第22页 |
| ·膜层结合力 | 第22-23页 |
| ·膜层耐磨性 | 第23页 |
| ·膜层耐蚀性 | 第23-25页 |
| 第3章 微弧氧化电解体系液选择及优化 | 第25-35页 |
| ·电解液体系的筛选 | 第25-26页 |
| ·电解液配方的正交实验 | 第26-29页 |
| ·电解液配方的单因素实验 | 第29-34页 |
| ·硅酸钠单因素实验 | 第29-31页 |
| ·添加剂A单因素实验 | 第31-33页 |
| ·钨酸钠单因素实验 | 第33-34页 |
| ·本章总结 | 第34-35页 |
| 第4章 特性电参数的研究及其对膜层性能的影响 | 第35-58页 |
| ·供电方式对氧化膜结构性能的影响 | 第35-41页 |
| ·实验条件 | 第36页 |
| ·供电方式对氧化膜宏观形貌的影响 | 第36-37页 |
| ·供电方式对氧化膜性能的影响 | 第37-38页 |
| ·供电方式对氧化膜层微观结构及相组成的影响 | 第38-40页 |
| ·供电方式对氧化膜生长过程的影响 | 第40-41页 |
| ·反向占空比对成膜层性能的影响 | 第41-46页 |
| ·实验条件 | 第41页 |
| ·反向占空比对氧化膜性能的影响 | 第41-44页 |
| ·反向占空比对氧化膜形貌及其相组分的影响 | 第44-46页 |
| ·交流不对称氧化工艺的确定 | 第46-54页 |
| ·A工艺实验研究 | 第46-48页 |
| ·B工艺实验研究 | 第48-51页 |
| ·C工艺实验研究 | 第51-53页 |
| ·交流不对称氧化实验研究 | 第53-54页 |
| ·交流不对称分段调节氧化法 | 第54-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第5章 交流不对称氧化膜性能研究 | 第58-68页 |
| ·微弧氧化膜层的微观形貌、元素成分和相组成分析 | 第58-62页 |
| ·微弧氧化膜层微观形貌 | 第58-60页 |
| ·微弧氧化膜层相组成及元素成分分析 | 第60-62页 |
| ·微弧氧化膜层的特性研究 | 第62-67页 |
| ·氧化膜的硬度 | 第62-63页 |
| ·氧化膜层的附着力 | 第63-64页 |
| ·氧化膜的耐磨性 | 第64-65页 |
| ·氧化膜的耐蚀性 | 第65-66页 |
| ·微弧氧化技术适应性验证 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 第6章 结论 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 攻读硕士期间发表的论文及专利 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
