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射频磁控溅射法制备Na-N共掺p型ZnO薄膜及其性能的研究

致谢第1-5页
前言第5-7页
摘要第7-8页
Abstract第8-10页
目次第10-12页
第一章 文献综述第12-32页
   ·ZnO的结构与性能第12-15页
     ·ZnO的基本性质第12页
     ·ZnO的结构第12-14页
     ·ZnO的光电性质第14页
     ·ZnO的压电性质第14-15页
     ·ZnO的铁磁性第15页
   ·ZnO的缺陷与掺杂第15-29页
     ·ZnO中的本征缺陷第15-17页
     ·ZnO中的非故意掺杂第17-18页
     ·ZnO中的n型掺杂第18页
     ·ZnO中的p型掺杂第18-29页
   ·ZnO薄膜的制备方法第29-31页
     ·磁控溅射技术第29页
     ·脉冲激光沉积技术第29-30页
     ·金属有机化学气相沉积第30页
     ·分子束外延技术第30-31页
   ·立题思路及研究内容第31-32页
第二章 实验设备、实验过程及性能表征第32-38页
   ·射频反应磁控溅射实验设备第32-33页
   ·射频磁控溅射技术原理第33-34页
   ·实验过程第34-36页
     ·靶材制备第34-35页
     ·衬底及其清洗第35-36页
     ·薄膜的制备过程第36页
   ·薄膜性能表征第36-37页
   ·本章小结第37-38页
第三章 Na-N共掺p型ZnO晶体薄膜第38-68页
   ·退火对ZnO:(Na,N)薄膜性能的影响第38-42页
     ·不同退火温度下的ZnO:(Na,N)薄膜的电学性能第39页
     ·不同退火温度下的ZnO:(Na,N)薄膜的XRD分析第39-41页
     ·不同退火温度下的ZnO:(Na,N)薄膜的表面形貌第41-42页
     ·不同退火温度下的ZnO:(Na,N)薄膜的光学性能分析第42页
   ·靶材中Na含量对ZnO:(Na,N)薄膜性能的影响第42-47页
     ·ZnO薄膜的电学性能分析第43页
     ·ZnO薄膜的XRD分析第43-44页
     ·ZnO薄膜的表面形貌分析第44-45页
     ·ZnO薄膜的光学性能分析第45-47页
   ·Ar/N_2O流量比对ZnO:(Na,N)薄膜性能的影响第47-51页
     ·不同Ar/N_2O流量比下的ZnO:(Na,N)薄膜的电学性能分析第47-48页
     ·不同Ar/N_2O流量比下的ZnO:(Na,N)薄膜的XRD分析第48-49页
     ·不同Ar/N_2O流量比下的ZnO:(Na,N)薄膜的表面形貌第49-50页
     ·不同Ar/N_2O流量比下的ZnO:(Na,N)薄膜的光学性能分析第50-51页
   ·生长压强对ZnO:(Na,N)薄膜性能的影响第51-53页
     ·不同生长压强下的ZnO:(Na,N)薄膜的电学性能分析第51页
     ·不同生长压强下的ZnO:(Na,N)薄膜的XRD分析第51-52页
     ·不同生长压强下的ZnO:(Na,N)薄膜的表面形貌第52页
     ·不同生长压强下的ZnO:(Na,N)薄膜的光学性能分析第52-53页
   ·衬底温度对ZnO:(Na,N)薄膜性能的影响第53-57页
     ·不同衬底温度下的ZnO:(Na,N)薄膜的电学性能分析第53-54页
     ·不同衬底温度下的ZnO:(Na,N)薄膜的XRD分析第54-56页
     ·不同衬底温度下的ZnO:(Na,N)薄膜的表面形貌第56页
     ·不同衬底温度下的ZnO:(Na,N)薄膜的光学性能分析第56-57页
   ·Na-N共掺ZnO同质p-n结的制备第57-58页
   ·Na-N共掺ZnO薄膜的机理分析第58-68页
     ·ZnO:N、ZnO:Na、ZnO:(Na,N)薄膜的电学性能分析第59-60页
     ·ZnO:N、ZnO:Na、ZnO:(Na,N)薄膜的XRD分析第60页
     ·ZnO:N、ZnO:Na、ZnO:(Na,N)薄膜的表面形貌分析第60-61页
     ·ZnO:N、ZnO:Na、ZnO:(Na,N)薄膜的光学性能分析第61页
     ·ZnO:N、ZnO:Na、ZnO:(Na,N)薄膜的XPS分析第61-68页
第四章 结论第68-70页
参考文献第70-82页
附录:作者简介及硕士期间发表或录用的论文及专利第82页

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