| 中文摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第一章 前言 | 第7-10页 |
| ·衍射光栅制作技术的发展 | 第7页 |
| ·离子束刻蚀技术的应用和国内外的研究现状 | 第7-9页 |
| ·本论文研究工作 | 第9-10页 |
| 第二章 离子束刻蚀技术简介 | 第10-19页 |
| ·离子束刻蚀技术分类 | 第10-11页 |
| ·离子源系统 | 第11-14页 |
| ·离子束刻蚀中常见的效应 | 第14-16页 |
| ·离子束刻蚀的主要工艺参数 | 第16-19页 |
| 第三章 常见光学材料的刻蚀特性研究 | 第19-30页 |
| ·实验步骤 | 第19-20页 |
| ·Ar离子束刻蚀中光刻胶、石英和铬的特性研究 | 第20-25页 |
| ·CHF_3离子束刻蚀中光刻胶、石英和铬的特性研究 | 第25-30页 |
| 第四章 离子束刻蚀图形演化过程 | 第30-38页 |
| ·离子束模拟中常用的算法 | 第30-32页 |
| ·线段运动算法的程序流程和关键因素 | 第32-35页 |
| ·程序的应用与讨论 | 第35-38页 |
| 第五章 光纤光栅掩模制作过程中的槽形控制 | 第38-52页 |
| ·光纤光栅掩模的制作 | 第38-39页 |
| ·离子束刻蚀中的图形演化 | 第39-43页 |
| ·对槽形占宽比控制的设想与实验验证 | 第43-46页 |
| ·刻蚀方法的适用性研究 | 第46-49页 |
| ·光纤光栅的离子束刻蚀实验 | 第49-52页 |
| 第六章 总结与展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 详细摘要 | 第59-61页 |