X射线光束线仪器与条形射频源离子束刻蚀设备研制若干问题研究
| 致谢 | 第1-7页 |
| 摘要 | 第7-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 图题 | 第9-12页 |
| 表题 | 第12-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-35页 |
| ·引言 | 第15页 |
| ·同步辐射装置及光束线工程技术进展 | 第15-20页 |
| ·同步辐射光源发展概况 | 第16-18页 |
| ·X射线束线传输技术发展 | 第18-20页 |
| ·惯性约束聚变衍射光学元件研制进展 | 第20-29页 |
| ·大口径衍射光学元件概况 | 第21-26页 |
| ·离子束刻蚀技术发展 | 第26-29页 |
| ·小结 | 第29-30页 |
| 参考文献 | 第30-35页 |
| 第二章 X射线光束线仪器若干关键技术研究 | 第35-78页 |
| ·概述 | 第35-41页 |
| ·X射线束线光学元件热载效应 | 第41-57页 |
| ·双晶单色器热效应测试分析 | 第41-50页 |
| ·大面积X射线前置镜热载影响 | 第50-56页 |
| ·相关问题讨论 | 第56-57页 |
| ·X射线束线仪器关键结构研究 | 第57-72页 |
| ·双晶单色器联动机构 | 第57-66页 |
| ·聚焦镜压弯调整机构 | 第66-72页 |
| ·相关问题讨论 | 第72页 |
| ·小结 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 第三章 条形射频源离子束刻蚀设备研制 | 第78-115页 |
| ·概述 | 第78-83页 |
| ·离子束刻蚀设备 | 第78-79页 |
| ·低能宽束离子源 | 第79-81页 |
| ·大面积刻蚀方法 | 第81-83页 |
| ·条形射频离子源技术 | 第83-87页 |
| ·工作原理及应用 | 第83-84页 |
| ·条形源离子光学系统 | 第84-87页 |
| ·矩形引出束流密度分布与测量 | 第87页 |
| ·KZ-400离子束刻蚀装置 | 第87-111页 |
| ·概况 | 第87-90页 |
| ·6cm×66cm条形射频离子源 | 第90-93页 |
| ·关键部件研制 | 第93-108页 |
| ·真空室及真空系统 | 第93-97页 |
| ·工作台及线形运动系统 | 第97-104页 |
| ·离子束流密度扫描探测系统 | 第104-108页 |
| ·刻蚀装置性能 | 第108-111页 |
| ·小结 | 第111-112页 |
| 参考文献 | 第112-115页 |
| 第四章 结论 | 第115-127页 |
| ·总结 | 第115-117页 |
| ·展望 | 第117-124页 |
| 参考文献 | 第124-127页 |
| 附录1:攻读博士学位期间文章报告 | 第127-128页 |
| 附录2:攻读博士学位期间项目课题 | 第128页 |
