摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-10页 |
第一章 前言 | 第10-17页 |
·硼化物陶瓷及其研究进展 | 第10-11页 |
·TiB_2单相陶瓷及其制备 | 第11-12页 |
·TiB_2-金属复合材料 | 第12-13页 |
·TiB_2复相陶瓷的研究进展 | 第13-14页 |
·本文研究体系的选择 | 第14-15页 |
·研究目的 | 第15页 |
·研究内容与课题来源 | 第15-17页 |
第二章 实验方案 | 第17-22页 |
·成型工艺 | 第17-19页 |
·粉末处理工艺 | 第18页 |
·粉末成型工艺 | 第18-19页 |
·陶瓷材料的烧结工艺 | 第19-20页 |
·常规烧结 | 第19页 |
·热压烧结 | 第19页 |
·热等静压烧结 | 第19-20页 |
·气压烧结 | 第20-21页 |
·气压烧结原理 | 第20页 |
·烧结工艺步骤 | 第20-21页 |
·本文工艺路线 | 第21-22页 |
第三章 TiB_2-Al_2O_3-Y_2O_3体系的气压烧结 | 第22-39页 |
·实验原料 | 第22-23页 |
·实验步骤 | 第23-25页 |
·喷雾造粒 | 第23页 |
·成型和脱脂工艺 | 第23-24页 |
·烧结工艺 | 第24页 |
·材料的物理性能表征 | 第24-25页 |
·气压烧结的致密化过程 | 第25-27页 |
·烧结工艺参数的研究 | 第27-29页 |
·烧结工艺探索 | 第27-28页 |
·第一步烧结对致密化过程的影响 | 第28-29页 |
·第二步烧结对致密化过程的影响 | 第29页 |
·封套工艺 | 第29-32页 |
·Al_2O_3涂层 | 第30-31页 |
·Al_2O_3+SiO_2涂层 | 第31-32页 |
·结果分析 | 第32-37页 |
·物相分析 | 第32-35页 |
·显微结构分析 | 第35-36页 |
·YAG相含量对致密化的影响 | 第36-37页 |
·本章小结 | 第37-39页 |
第四章 TiB_2-Al_2O_3-Ni体系的气压烧结 | 第39-61页 |
·实验方法 | 第39-40页 |
·气压烧结工艺参数的研究 | 第40-43页 |
·气体压力对致密化过程的影响 | 第40页 |
·加压温度对致密化过程的影响 | 第40-41页 |
·第一步温度对致密化过程的影响 | 第41-42页 |
·第二步温度对致密化过程的影响 | 第42-43页 |
·不同工艺参数对显微结构的影响 | 第43-47页 |
·样品显微结构的分析 | 第43-45页 |
·不同烧结温度对显微结构的影响 | 第45-46页 |
·不同保温时间对显微结构的影响 | 第46-47页 |
·材料性能的研究 | 第47-51页 |
·Ni含量对材料硬度的影响 | 第47-48页 |
·气体压力对材料性能的影响 | 第48-51页 |
·Al_2O_3含量对材料显微结构与力学性能的影响 | 第51-57页 |
·Al_2O_3含量对显微结构的影响 | 第51-54页 |
·Al_2O_3含量对力学性能的影响 | 第54-56页 |
·Al_2O_3含量对材料韧性的影响 | 第56-57页 |
·Al_2O_3含量对材料电性能的影响 | 第57-59页 |
·烧结过程中的样品变形问题 | 第59页 |
·本章小结 | 第59-61页 |
第五章 结论 | 第61-63页 |
参考文献 | 第63-66页 |
致谢 | 第66-67页 |
附录 | 第67页 |