| 中文摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 前言 | 第10-46页 |
| ·半导体光催化概述 | 第10-23页 |
| ·背景介绍 | 第10-11页 |
| ·半导体光催化原理 | 第11-14页 |
| ·面临的问题 | 第14页 |
| ·影响TiO_2光催化性能的主要因素 | 第14-18页 |
| ·晶形结构 | 第14-16页 |
| ·二氧化钛的粒径 | 第16-18页 |
| ·表面羟基 | 第18页 |
| ·提高TiO_2光催化性能的主要方法 | 第18-23页 |
| ·负载 | 第18-19页 |
| ·金属元素搀杂 | 第19-20页 |
| ·非金属元素搀杂 | 第20页 |
| ·贵金属的表面沉积 | 第20-21页 |
| ·半导体复合 | 第21-22页 |
| ·氧化还原反应的偶合 | 第22-23页 |
| ·非TiO_2半导体光催化剂的研究 | 第23页 |
| ·杂多酸光催化 | 第23-29页 |
| ·杂多酸的结构和物理性质 | 第24-25页 |
| ·杂多酸的结构特征 | 第24页 |
| ·杂多酸的结构表征 | 第24页 |
| ·杂多酸的氧化还原性能 | 第24-25页 |
| ·杂多酸的光化学性质 | 第25-26页 |
| ·杂多酸光催化 | 第26-28页 |
| ·杂多酸光催化机理 | 第26-27页 |
| ·杂多酸光催化降解实例 | 第27-28页 |
| ·杂多酸光催化与半导体光催化比较 | 第28-29页 |
| ·TIO_2表面的阴离子修饰 | 第29-34页 |
| ·杂多酸修饰 | 第29-30页 |
| ·杂多酸阴离子和TiO_2表面的相互作用 | 第29-30页 |
| ·杂多酸表面修饰对TiO_2光催化的影响 | 第30页 |
| ·氟离子修饰 | 第30-34页 |
| ·氟离子对TiO_2表面钛存在状态的影响 | 第31-32页 |
| ·TiO_2表面氟离子的修饰对光催化反应的影响 | 第32-34页 |
| ·吸附对光催化反应的影响 | 第34-36页 |
| ·光催化反应动力学 | 第36-37页 |
| ·立题依据和研究方案 | 第37-40页 |
| 参考文献 | 第40-46页 |
| 第二章 吸附对二氧化钛光催化降解有机物速率的影响 | 第46-64页 |
| ·前言 | 第46-48页 |
| ·实验部分 | 第48-49页 |
| ·原料和试剂 | 第48页 |
| ·光催化实验过程 | 第48-49页 |
| ·结果与讨论 | 第49-61页 |
| ·X3B在TiO_2表面的吸附 | 第49-51页 |
| ·光催化降解速率的测定 | 第51-61页 |
| ·结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-64页 |
| 第三章 杂多酸和氟离子的表面修饰对有机染料X3B在二氧化钛上的紫外光催化降解研究——不同的氧化活性物种的产生 | 第64-92页 |
| ·介绍 | 第64-66页 |
| ·实验部分 | 第66-67页 |
| ·主要原料和试剂 | 第66页 |
| ·吸附实验 | 第66-67页 |
| ·光催化实验过程 | 第67页 |
| ·结果与讨论 | 第67-89页 |
| ·POM和NaF对X3B在TiO_2表面吸附的影响 | 第67-72页 |
| ·POM和NaF对TiO_2光催化降解X3B的影响 | 第72-79页 |
| ·羟基淬灭实验 | 第79-82页 |
| ·反应机理探讨 | 第82-86页 |
| ·利用表观降解速率计算速率常数和吸附常数 | 第86-89页 |
| ·结论 | 第89-91页 |
| 参考文献 | 第91-92页 |
| 第四章 氟表面修饰对不同晶型二氧化钛紫外光光催化降解苯酚的影响 | 第92-111页 |
| ·概述 | 第92-93页 |
| ·实验部分 | 第93-96页 |
| ·催化剂的制备 | 第93-94页 |
| ·苯酚的光催化降解 | 第94-95页 |
| ·氟离子吸附等温线的测定 | 第95页 |
| ·平带电位的测定 | 第95-96页 |
| ·结果与讨论 | 第96-107页 |
| ·XRD表征 | 第96-97页 |
| ·BET表征 | 第97页 |
| ·表面的羟基测定 | 第97-99页 |
| ·氟的吸附对平带电位的影响 | 第99页 |
| ·氟对TiO_2光催化降解苯酚速率的影响 | 第99-101页 |
| ·氟对苯酚降解中间产物的影响 | 第101-103页 |
| ·中间产物的吸附 | 第103-105页 |
| ·羟基淬灭实验 | 第105-107页 |
| ·氟的作用机制讨论 | 第107-108页 |
| ·结论 | 第108-110页 |
| 参考文献 | 第110-111页 |
| 致谢 | 第111-112页 |
| 个人简历和论文情况 | 第112页 |
