| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章：引言 | 第9-12页 |
| ·光催化技术发展历程 | 第9页 |
| ·TiO_2作为光催化剂在污染物处理中的应用 | 第9-12页 |
| ·污水处理 | 第9-10页 |
| ·气体净化 | 第10页 |
| ·抗菌 | 第10-12页 |
| 第二章：文献综述 | 第12-30页 |
| ·TiO_2的光催化机理 | 第12-16页 |
| ·TiO_2的晶体结构 | 第12-13页 |
| ·光催化机理 | 第13-15页 |
| ·光催化的反应动力学 | 第15-16页 |
| ·TiO_2光催化薄膜的制备方法 | 第16-20页 |
| ·化学气相沉积法 | 第16-17页 |
| ·溅射法 | 第17页 |
| ·溶液——凝胶法 | 第17-18页 |
| ·水热法 | 第18页 |
| ·粘合剂法 | 第18-19页 |
| ·电泳沉积法 | 第19页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第19页 |
| ·液相沉积法(LPD) | 第19-20页 |
| ·提高TiO_2光催化剂活性的途径 | 第20-25页 |
| ·TiO_2表面贵金属的沉积 | 第20-21页 |
| ·金属离子的掺杂 | 第21-22页 |
| ·复合半导体 | 第22-24页 |
| ·染料光敏化 | 第24页 |
| ·电子捕获剂 | 第24-25页 |
| ·表面酸化 | 第25页 |
| ·半导体表面的螯合衍生 | 第25页 |
| ·TiO_2光催化剂负载的载体 | 第25-27页 |
| ·玻璃类 | 第26-27页 |
| ·吸附剂类 | 第27页 |
| ·阳离子交换剂类 | 第27页 |
| ·陶瓷类 | 第27页 |
| ·TiO_2光催化剂研究中存在的问题及发展方向 | 第27-30页 |
| ·存在的问题 | 第27-28页 |
| ·发展方向 | 第28-30页 |
| 第三章：纳米二氧化钛薄膜的制备与光催化性能研究 | 第30-64页 |
| ·影响溶胶质量的因素研究 | 第30-37页 |
| ·溶胶——凝胶法制备TiO_2薄膜的工艺流程 | 第31页 |
| ·不同加水方式对胶凝时间的影响 | 第31-32页 |
| ·不同螯合剂对胶凝时间的影响 | 第32-33页 |
| ·不同加水量对胶凝时间的影响 | 第33-34页 |
| ·不同溶剂量对胶凝时间的影响 | 第34-35页 |
| ·不同pH值对胶凝时间的影响 | 第35-36页 |
| ·不同反应温度对胶凝时间的影响 | 第36-37页 |
| ·结论 | 第37页 |
| ·TiO_2光催化薄膜的制备 | 第37-38页 |
| ·玻璃基底的准备 | 第37页 |
| ·旋涂溶胶 | 第37-38页 |
| ·退火处理 | 第38页 |
| ·TiO_2薄膜的光谱分析 | 第38-43页 |
| ·X射线衍射分析 | 第38-39页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第39-40页 |
| ·TiO_2薄膜光透过率分析 | 第40-43页 |
| ·影响旋涂法制备的TiO_2薄膜光催化性能的若干因素 | 第43-49页 |
| ·TiO_2薄膜光催化时间与甲基橙降解率的关系 | 第43-44页 |
| ·转速对TiO_2薄膜光催化性能的影响 | 第44-45页 |
| ·不同溶胶浓度制备的TiO_2薄膜的光催化比较 | 第45-46页 |
| ·不同层数TiO_2薄膜光催化效果的比较 | 第46-47页 |
| ·甲基橙溶液的pH值对光催化效果的影响 | 第47-49页 |
| ·结论 | 第49页 |
| ·退火时间对TiO_2薄膜光催化性能的影响 | 第49-53页 |
| ·不同退火时间薄膜的拉曼光谱演化与TiO_2晶粒尺寸估算 | 第49-52页 |
| ·晶粒尺寸对光催化效率的影响 | 第52-53页 |
| ·结论 | 第53页 |
| ·晶粒尺寸对TiO_2薄膜光催化剂失活的影响 | 第53-55页 |
| ·TiO_2薄膜光催化性能的提高 | 第55-64页 |
| ·多孔硅的基础知识 | 第55-58页 |
| ·硅纳米孔柱阵列的制备 | 第58-60页 |
| ·硅纳米孔柱阵列形貌的表征 | 第60页 |
| ·硅纳米孔柱阵列上沉积TiO_2 | 第60-62页 |
| ·硅纳米孔柱阵列和TiO_2复合材料的光催化性能研究 | 第62-64页 |
| 第四章：结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 附录 | 第73页 |
