| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 前言 | 第8-17页 |
| ·类金刚石（DLC）薄膜 | 第8-12页 |
| ·DLC 薄膜概述 | 第8-11页 |
| ·DLC 薄膜的性能和应用 | 第11-12页 |
| ·氟化类金刚石（F-DLC）薄膜 | 第12-15页 |
| ·氟化类金刚石（F-DLC）薄膜概述 | 第12-13页 |
| ·F-DLC 薄膜的结构 | 第13页 |
| ·氟对 DLC 薄膜性能的影响 | 第13-15页 |
| ·本小组的研究基础 | 第15-16页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第16-17页 |
| 第二章 F-DLC 薄膜的制备 | 第17-28页 |
| ·射频反应磁控溅射 | 第17-23页 |
| ·溅射技术（sputtering） | 第17-18页 |
| ·射频溅射技术（RF magnetron sputtering） | 第18-19页 |
| ·磁控溅射技术（magnetron sputtering） | 第19-22页 |
| ·射频反应磁控溅射技术（RF reactive magnetron sputtering） | 第22页 |
| ·射频反应磁控溅射装置 | 第22-23页 |
| ·316L 不锈钢基片 | 第23-25页 |
| ·316L 不锈钢 | 第23-24页 |
| ·基片预处理 | 第24-25页 |
| ·采用 Si 作为过渡层的理由 | 第25-26页 |
| ·样品的制备 | 第26-28页 |
| ·Si 过渡层的制备 | 第26-27页 |
| ·F-DLC 薄膜的制备 | 第27-28页 |
| 第三章 F-DLC 薄膜的结构及性能表征 | 第28-38页 |
| ·F-DLC 薄膜厚度的测量 | 第28-29页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM）表征 | 第29页 |
| ·F-DLC 薄膜的拉曼光谱表征（Raman Spectroscopy） | 第29-32页 |
| ·F-DLC 薄膜的傅立叶红外吸收光谱表征 | 第32-35页 |
| ·F-DLC 薄膜的膜/基结合强度表征 | 第35-38页 |
| 第四章 F-DLC 薄膜附着性能研究 | 第38-48页 |
| ·F-DLC 薄膜的附着性能研究 | 第38-39页 |
| ·引入 Si 过渡层对 F-DLC 薄膜附着性能的影响 | 第38页 |
| ·不同射频功率 Si 过渡层对 F-DLC 薄膜的附着性能的影响 | 第38-39页 |
| ·SEM 照片分析和晶粒尺寸 | 第39-41页 |
| ·各样品的 SEM 照片及分析 | 第39-41页 |
| ·F-DLC 薄膜的晶粒尺寸 | 第41页 |
| ·Si 过渡层的沉积速率 | 第41-42页 |
| ·红外光谱研究 | 第42-45页 |
| ·F-DLC 薄膜的拉曼图谱研究 | 第45-48页 |
| 第五章 结论 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-52页 |
| 攻读学位期间公开发表论文 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
