| 中文摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-13页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·闪耀光栅制作技术以及国内外研究现状 | 第9-12页 |
| ·本论文的研究工作 | 第12-13页 |
| 第二章 离子束刻蚀技术及刻蚀图形演化 | 第13-29页 |
| ·离子束刻蚀技术 | 第13-16页 |
| ·离子束刻蚀分类 | 第13-14页 |
| ·离子源系统 | 第14-16页 |
| ·光刻胶、K9 玻璃和石英刻蚀特性研究 | 第16-23页 |
| ·实验步骤 | 第16-17页 |
| ·Ar 离子束刻蚀光刻胶、K9 玻璃、石英的刻蚀特性研究 | 第17-20页 |
| ·CHF3 反应离子束刻蚀光刻胶、K9 玻璃、石英刻蚀特性研究 | 第20-23页 |
| ·线段运动算法 | 第23-27页 |
| ·线段运动算法原理 | 第23-24页 |
| ·高级线段运动算法的程序流程和关键因素 | 第24-27页 |
| ·程序的验证与讨论 | 第27-28页 |
| ·小结 | 第28-29页 |
| 第三章 闪耀光栅的制作 | 第29-56页 |
| ·引言 | 第29-30页 |
| ·利用同质掩模制作闪耀光栅工艺流程 | 第30-32页 |
| ·同质掩模的制作 | 第32-41页 |
| ·离子束倾斜角度的计算 | 第32-33页 |
| ·掩模占空比和高度的确定 | 第33-35页 |
| ·全息光刻胶掩模的制作 | 第35-38页 |
| ·刻蚀制作同质掩模 | 第38-41页 |
| ·倾斜刻蚀制作闪耀光栅 | 第41-44页 |
| ·同质掩模倾斜刻蚀 | 第41-42页 |
| ·掩膜占宽比变化对闪耀角的影响 | 第42-44页 |
| ·刻蚀方法的适用性研究 | 第44-51页 |
| ·石英上制作 10°附近闪耀光栅 | 第44-46页 |
| ·K9 玻璃基底上制作闪耀 10°附近闪耀光栅 | 第46-48页 |
| ·在石英上制作 30°闪耀光栅 | 第48-51页 |
| ·闪耀光栅制作过程控制 | 第51-53页 |
| ·衍射效率测量与分析 | 第53-55页 |
| ·小结 | 第55-56页 |
| 第四章 总结与展望 | 第56-58页 |
| ·总结 | 第56-57页 |
| ·展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |