| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-24页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·NiTi记忆合金的基本特性 | 第8-11页 |
| ·形状记忆效应 | 第8-10页 |
| ·超弹性 | 第10-11页 |
| ·生物相容性 | 第11页 |
| ·NiTi记忆合金的表面改性 | 第11-18页 |
| ·表面改性要求 | 第11-12页 |
| ·表面改性方法 | 第12-18页 |
| ·NiTi记忆合金化学抛光及阳极氧化 | 第18-22页 |
| ·化学抛光概述 | 第18-19页 |
| ·化学抛光机理 | 第19-20页 |
| ·化学抛光特点 | 第20-21页 |
| ·三种抛光方法比较 | 第21-22页 |
| ·阳极氧化 | 第22页 |
| ·本论文研究背景、研究目的及研究内容 | 第22-24页 |
| ·研究目的 | 第23页 |
| ·研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 NiTi记忆合金化学抛光热力学条件分析 | 第24-34页 |
| ·引言 | 第24页 |
| ·液—固界面现象 | 第24-26页 |
| ·液—固界面张力 | 第24-25页 |
| ·Young方程和接触角 | 第25页 |
| ·润湿现象 | 第25-26页 |
| ·热力学条件分析 | 第26-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 NiTi记忆合金化学抛光工艺研究 | 第34-44页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·试验部分 | 第34-37页 |
| ·实验材料及药品 | 第34-35页 |
| ·实验仪器及设备 | 第35-36页 |
| ·实验方法 | 第36-37页 |
| ·结果与讨论 | 第37-43页 |
| ·正交实验结果及极差分析 | 第37-38页 |
| ·验证实验 | 第38页 |
| ·搅拌与否对抛光效果的影响 | 第38-39页 |
| ·HF含量对抛光效果的影响 | 第39-40页 |
| ·HNO_3含量对抛光效果的影响 | 第40页 |
| ·氧化剂X含量对抛光效果的影响 | 第40-41页 |
| ·添加剂含量对抛光效果的影响 | 第41页 |
| ·温度对抛光效果的影响 | 第41-42页 |
| ·时间对抛光效果的影响 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 NiTi记忆合金化学抛光和机械抛光的性能对比分析 | 第44-51页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·试验部分 | 第44-46页 |
| ·实验材料及体系 | 第44页 |
| ·实验方法 | 第44-46页 |
| ·结果与讨论 | 第46-49页 |
| ·表面形貌及成分分析 | 第46-47页 |
| ·表面反射率、粗糙度及失重 | 第47页 |
| ·腐蚀失重—时间分析 | 第47-48页 |
| ·模拟生理盐水0.9%NaCl中的腐蚀电位测试 | 第48-49页 |
| ·模拟生理盐水0.9%NaCl中的动电位阳极极化测试 | 第49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第五章 NiTi记忆合金阳极氧化法制备TiO_2膜 | 第51-65页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·试验部分 | 第51-53页 |
| ·实验材料及体系 | 第51页 |
| ·实验方法 | 第51-53页 |
| ·结果与讨论 | 第53-64页 |
| ·阳极氧化电流密度确定 | 第53-54页 |
| ·阳极氧化时间对氧化膜性能的影响 | 第54-55页 |
| ·成膜理论分析 | 第55-56页 |
| ·氧化膜的表面形貌 | 第56页 |
| ·氧化膜成分分析 | 第56-58页 |
| ·模拟唾液中的腐蚀电位测试 | 第58页 |
| ·模拟唾液中的动电位阳极极化测试 | 第58-59页 |
| ·氧化膜中Ni的数学扩散模型 | 第59-63页 |
| ·Ni离子析出分析 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 全文总结 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
| 附录 | 第73-74页 |
