铝合金表面微弧氧化工艺的研究
| 提要 | 第1-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| ·铝合金的应用及其表面处理技术 | 第9页 |
| ·微弧氧化技术的概念 | 第9-10页 |
| ·微弧氧化的历史发展及现状 | 第10-19页 |
| ·微弧氧化工艺的特点 | 第11-14页 |
| ·微弧氧化膜层的特性 | 第14页 |
| ·微弧氧化过程 | 第14-15页 |
| ·微弧氧化技术机理的研究进展 | 第15-19页 |
| ·微弧氧化技术的应用前景 | 第19-20页 |
| ·论文主要研究内容 | 第20-21页 |
| 第2章 实验设备及方法 | 第21-25页 |
| ·实验设备 | 第21-22页 |
| ·微弧氧化基体材料 | 第22页 |
| ·实验技术路线 | 第22-25页 |
| ·微弧氧化工艺流程 | 第23页 |
| ·微弧氧化膜的表征 | 第23-25页 |
| ·膜层微观形貌及化学成分分析 | 第23页 |
| ·膜层硬度测量 | 第23页 |
| ·膜层耐蚀性能测试 | 第23-24页 |
| ·膜层的微观摩擦磨损性能研究 | 第24-25页 |
| 第3章 工艺参数对微弧氧化膜组织性能的影响 | 第25-53页 |
| ·电解液对微弧氧化膜组织性能的影响 | 第25-33页 |
| ·电解液主成膜剂的确定 | 第25-30页 |
| ·电解液浓度对起弧电压的影响 | 第25-26页 |
| ·电解液浓度对微弧氧化膜表面形貌的影响 | 第26-27页 |
| ·电解液浓度对微弧氧化膜生长速率的影响 | 第27-28页 |
| ·电解液浓度对微弧氧化膜相组成的影响 | 第28-29页 |
| ·电解液浓度对微弧氧化膜硬度的影响 | 第29-30页 |
| ·电解液浓度对微弧氧化膜耐蚀性的影响 | 第30页 |
| ·电解液中添加剂的确定 | 第30-33页 |
| ·NaOH浓度对微弧氧化膜表面形貌的影响 | 第31页 |
| ·NaOH浓度对微弧氧化膜厚度及硬度的影响 | 第31-33页 |
| ·电解液pH值的确定 | 第33页 |
| ·电流密度对微弧氧化膜组织性能的影响 | 第33-38页 |
| ·电流密度对微弧氧化膜表面形貌的影响 | 第33-34页 |
| ·电流密度对微弧氧化膜截面形貌的影响 | 第34-36页 |
| ·电流密度对微弧氧化膜相组成的影响 | 第36-38页 |
| ·电流密度对微弧氧化膜耐蚀性的影响 | 第38页 |
| ·氧化时间对微弧氧化膜组织性能的影响 | 第38-44页 |
| ·氧化时间对氧化电压的影响 | 第38-39页 |
| ·氧化时间对微弧氧化膜表面形貌的影响 | 第39-41页 |
| ·氧化时间对微弧氧化膜截面形貌的影响 | 第41-42页 |
| ·氧化时间对微弧氧化膜相组成的影响 | 第42-44页 |
| ·电源频率对微弧氧化膜组织性能的影响 | 第44-49页 |
| ·电源频率对微弧氧化膜表面形貌的影响 | 第44-45页 |
| ·电源频率对微弧氧化膜截面形貌的影响 | 第45-47页 |
| ·电源频率对微弧氧化膜相结构的影响 | 第47-49页 |
| ·负向电压对微弧氧化膜的影响 | 第49-50页 |
| ·微弧氧化膜的耐磨性能研究 | 第50-51页 |
| ·小结 | 第51-53页 |
| 第4章 SiC纳米颗粒对微弧氧化膜组织性能的影响 | 第53-63页 |
| ·添加SiC纳米粉对氧化电压的影响 | 第53-54页 |
| ·添加SiC纳米粉对膜层表面形貌的影响 | 第54-55页 |
| ·添加SiC纳米粉对膜层厚度的影响 | 第55-56页 |
| ·微弧氧化膜的相组成分析 | 第56页 |
| ·微弧氧化膜的耐蚀性能研究 | 第56-58页 |
| ·微弧氧化膜耐蚀性的电化学极化实验研究 | 第57页 |
| ·微弧氧化膜耐蚀性的电化学阻抗研究 | 第57-58页 |
| ·微弧氧化膜的耐磨性能研究 | 第58-61页 |
| ·小结 | 第61-63页 |
| 第5章 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 摘要 | 第70-72页 |
| Abstract | 第72-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
