TaN微波功率薄膜电阻器的制备及性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 前言 | 第8-14页 |
| ·研究目的与意义 | 第8-9页 |
| ·国内外研究进展 | 第9-12页 |
| ·TaN 薄膜制备及性能研究进展 | 第9-11页 |
| ·TaN 功率薄膜电阻器研究进展 | 第11-12页 |
| ·TaN 功率薄膜电阻器的应用 | 第12-13页 |
| ·选题依据与研究内容 | 第13-14页 |
| ·选题依据 | 第13页 |
| ·研究内容 | 第13-14页 |
| 第二章 TaN 薄膜制备工艺与性能研究 | 第14-31页 |
| ·引言 | 第14-15页 |
| ·实验方法 | 第15-17页 |
| ·溅射时间对TaN 薄膜的影响 | 第17-19页 |
| ·溅射气压对TaN 薄膜的影响 | 第19-22页 |
| ·溅射气压对TaN 薄膜成分的影响 | 第19-20页 |
| ·溅射气压对TaN 薄膜相结构的影响 | 第20页 |
| ·溅射气压对TaN 薄膜方阻的影响 | 第20-21页 |
| ·溅射气压对TaN 薄膜TCR 的影响 | 第21-22页 |
| ·溅射氮分压对TaN 薄膜的影响 | 第22-26页 |
| ·氮分压对TaN 薄膜成分的影响 | 第22页 |
| ·氮分压对TaN 薄膜相结构的影响 | 第22-23页 |
| ·氮分压对TaN 薄膜厚度的影响 | 第23-24页 |
| ·氮分压对TaN 薄膜方阻的影响 | 第24页 |
| ·氮分压对TaN 薄膜TCR 的影响 | 第24-26页 |
| ·热处理温度对TaN 薄膜性能的影响 | 第26-30页 |
| ·热处理温度对TaN 薄膜表面形貌的影响 | 第26-28页 |
| ·热处理对TaN 薄膜方阻的影响 | 第28-29页 |
| ·热处理对TaN 薄膜TCR 的影响 | 第29-30页 |
| ·小结 | 第30-31页 |
| 第三章 TaN 微波功率电阻器的设计与性能仿真 | 第31-46页 |
| ·引言 | 第31-32页 |
| ·微波功率电阻器的设计 | 第32-39页 |
| ·微波功率电阻器功率设计 | 第32-34页 |
| ·电阻器的微波频率设计 | 第34-38页 |
| ·微波功率薄膜电阻器的设计结果 | 第38-39页 |
| ·TaN 微波功率薄膜电阻器性能仿真 | 第39-42页 |
| ·仿真结果与讨论 | 第42-45页 |
| ·TaN1 微波功率薄膜电阻器的仿真结果 | 第42-43页 |
| ·TaN2 微波功率薄膜电阻器的仿真结果 | 第43-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| 第四章TaN 微波功率薄膜电阻器的制备 | 第46-52页 |
| ·TaN 微波功率薄膜电阻器的制备 | 第46-47页 |
| ·薄膜电阻器性能测试 | 第47-50页 |
| ·TaN 微波薄膜电阻器的功率测试 | 第47页 |
| ·TaN 微波薄膜电阻器的频率测试 | 第47-50页 |
| ·小结 | 第50-52页 |
| 第五章 结论 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第57-58页 |
