PVD技术制备铂基掺铈薄膜及其结构研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 前言 | 第9-31页 |
| ·氢能 | 第9-19页 |
| ·能源和环境现状 | 第9-11页 |
| ·可再生能源 | 第11-12页 |
| ·氢能源---创造绿色未来 | 第12-19页 |
| ·铂和铈的概述 | 第19-24页 |
| ·铂的概述 | 第19-22页 |
| ·铈的概述 | 第22-24页 |
| ·薄膜技术 | 第24-29页 |
| ·化学方法 | 第25-26页 |
| ·物理方法 | 第26-28页 |
| ·薄膜表征 | 第28-29页 |
| ·本课题研究的意义和内容 | 第29-31页 |
| 第二章 试验 | 第31-47页 |
| ·试验原理、设备、材料 | 第31-34页 |
| ·试验原理 | 第31-32页 |
| ·试验主体设备 | 第32-33页 |
| ·试验材料及仪器 | 第33-34页 |
| ·试验方案 | 第34-40页 |
| ·试验条件 | 第34-35页 |
| ·试验具体方案 | 第35页 |
| ·样品制备过程 | 第35-40页 |
| ·试验分析检测方法 | 第40-47页 |
| ·XRD | 第40-41页 |
| ·SEM | 第41-43页 |
| ·XPS | 第43-45页 |
| ·TEM | 第45-47页 |
| 第三章 薄膜的成分和结构分析 | 第47-69页 |
| ·XRD分析 | 第47-53页 |
| ·XRD定性分析 | 第47-48页 |
| ·XRD半定量分析 | 第48-53页 |
| ·SEM分析 | 第53-56页 |
| ·XPS分析 | 第56-63页 |
| ·对12#S(单晶硅载体)样品的XPS分析 | 第56-60页 |
| ·对18#S(单晶硅载体)样品的XPS分析 | 第60-63页 |
| ·TEM分析 | 第63-65页 |
| ·载铂量分析 | 第65-66页 |
| ·电化学性能分析 | 第66-68页 |
| ·方法介绍 | 第66页 |
| ·对12#C样品的电化学性能分析 | 第66-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第四章 各试验参数对薄膜成分及结构的影响 | 第69-79页 |
| ·基底对薄膜的影响 | 第69-70页 |
| ·温度对薄膜的影响 | 第70-72页 |
| ·氧流量对薄膜的影响 | 第72-74页 |
| ·束流对薄膜的影响 | 第74-75页 |
| ·屏压对薄膜的影响 | 第75-77页 |
| ·移动距离对薄膜的影响 | 第77-78页 |
| ·镀膜时间对薄膜的影响 | 第78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| 第五章 结论与展望 | 第79-81页 |
| ·结论 | 第79页 |
| ·展望 | 第79-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-87页 |
| 附录 | 第87页 |
