| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-25页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·传统热电材料 | 第9-16页 |
| ·热电效应 | 第9-10页 |
| ·传统热电材料研究进展 | 第10-16页 |
| ·原子层热电堆材料(ALT) | 第16页 |
| ·激光感生热电电压(LITV)效应的发现及研究现状 | 第16-23页 |
| ·激光感生热电电压(LITV)效应的发现 | 第16-21页 |
| ·LITV效应的研究现状及意义 | 第21-23页 |
| ·本论文的工作及意义 | 第23-25页 |
| 第二章 试验设备及方法 | 第25-34页 |
| ·靶材制备方法 | 第25-26页 |
| ·紫外脉冲激光沉积(PLD)技术 | 第26-29页 |
| ·PLD技术的发展 | 第26-27页 |
| ·PLD技术的优势和特点 | 第27-28页 |
| ·制备超晶格样品的PLD镀膜设备 | 第28-29页 |
| ·材料的X射线表征方法 | 第29-33页 |
| ·X射线基本原理 | 第29-31页 |
| ·超晶格中的X射线衍射 | 第31-33页 |
| ·LITV信号的测量 | 第33-34页 |
| 第三章 超晶格薄膜的制备 | 第34-52页 |
| ·靶材的制备 | 第34-39页 |
| ·前言 | 第34页 |
| ·固相法制备SrTi_(0.8)Nb_(0.2)O_3、SrTiO_3多晶靶材 | 第34-37页 |
| ·共沉淀法制备LaAlO_3多晶靶材 | 第37-39页 |
| ·超晶格薄膜的制备 | 第39-49页 |
| ·前言 | 第39-40页 |
| ·制备超晶格的条件摸索 | 第40-42页 |
| ·制备超晶格的制备 | 第42-49页 |
| ·超晶格的精细结构表征 | 第49-52页 |
| 第四章 超晶格中的LITV信号研究 | 第52-73页 |
| ·前言 | 第52页 |
| ·STO/NSTO/LAO(001)超晶格中的LITV效应 | 第52-61页 |
| ·同一周期不同NSTO层厚度的超晶格的LITV效应 | 第52-59页 |
| ·不同周期的STO/NSTO/LAO(001)超晶格的LITV效应 | 第59-61页 |
| ·LITV效应比较 | 第61-68页 |
| ·单层膜与STO/NSTO/LAO(001)超晶格中的LITV效应比较 | 第62-65页 |
| ·LAO/NSTO/LAO(001)与STO/NSTO/LAO(001)超晶格的LITV效应比较 | 第65-68页 |
| ·超晶格中的各向异性Seebeck系数和热扩散系数的计算 | 第68-73页 |
| ·NSTO/LAO(001)单层膜的计算 | 第70-71页 |
| ·STO/NSTO/LAO(001)超晶格的计算 | 第71-73页 |
| 第五章 结论与展望 | 第73-75页 |
| ·结论 | 第73-74页 |
| ·展望 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-80页 |
| 附录:硕士期间发表的论文 | 第80页 |
