锗膜的折射率温度系数的理论建模与实验测量
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-14页 |
| ·研究背景 | 第8-10页 |
| ·锗元素 | 第8页 |
| ·应用背景 | 第8-9页 |
| ·光纤温度传感器 | 第9-10页 |
| ·研究现状与目的 | 第10-14页 |
| ·半导体热光系数的研究现状 | 第10-12页 |
| ·本论文的研究目的与内容 | 第12-14页 |
| 第二章 吸收边附近折射率温度系数的理论建模 | 第14-31页 |
| ·材料的折射率与介电常数 | 第14-17页 |
| ·折射率的宏观定义 | 第14-15页 |
| ·介电常数的微观意义 | 第15-16页 |
| ·Kramers-Kronig方程 | 第16-17页 |
| ·半导体的光吸收 | 第17-22页 |
| ·本征吸收 | 第17-19页 |
| ·激子吸收 | 第19-20页 |
| ·自由载流子吸收 | 第20-21页 |
| ·晶格振动吸收 | 第21-22页 |
| ·吸收边附近折射率温度系数的计算 | 第22-29页 |
| ·吸收边附近折射率色散关系 | 第22-25页 |
| ·吸收边附近折射率温度系数的理论推导 | 第25-29页 |
| ·小节 | 第29-31页 |
| 第三章 锗膜热光系数的检测模型 | 第31-38页 |
| ·锗膜的反射率模型 | 第31-32页 |
| ·锗膜厚度对实验的影响 | 第32-37页 |
| ·小节 | 第37-38页 |
| 第四章 锗膜的制作 | 第38-57页 |
| ·镀膜 | 第38-45页 |
| ·磁控溅射镀膜 | 第39-42页 |
| ·真空蒸镀镀膜 | 第42-45页 |
| ·锗膜的光学常数测量 | 第45-51页 |
| ·椭偏仪的测量原理 | 第45-48页 |
| ·椭偏仪测量过程 | 第48-51页 |
| ·锗膜测量结果对比与薄膜质量分析 | 第51-56页 |
| ·光学常数测量结果分析 | 第51页 |
| ·锗膜质量检测与比较 | 第51-56页 |
| ·小节 | 第56-57页 |
| 第五章 锗膜热光系数的检测 | 第57-65页 |
| ·系统结构 | 第57-60页 |
| ·光源模块 | 第57-59页 |
| ·信号检测与控制模块 | 第59-60页 |
| ·系统噪声分析及解决方案 | 第60-62页 |
| ·实验结果 | 第62-64页 |
| ·结果讨论与后续工作 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 攻读硕士期间发表论文与专利 | 第69页 |
