| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·染料废水的处理 | 第11页 |
| ·柱撑蒙脱土 | 第11-17页 |
| ·蒙脱土的概述 | 第11-13页 |
| ·蒙脱土的结构特点 | 第12-13页 |
| ·蒙脱土的基本性质 | 第13页 |
| ·二氧化钛概述 | 第13-16页 |
| ·二氧化钛的晶体结构及光催化氧化机理 | 第13-15页 |
| ·纳米二氧化钛的制备 | 第15-16页 |
| ·柱撑蒙脱土概述 | 第16-17页 |
| ·柱撑蒙脱土的研究现状 | 第16-17页 |
| ·钛柱撑蒙脱土的制备 | 第17页 |
| ·本文研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 光催化降解偶氮化合物催化剂 Ti-MMT 的制备及其光催化性能的研究 | 第19-56页 |
| ·前言 | 第19-20页 |
| ·实验试剂及仪器 | 第20-21页 |
| ·实验试剂 | 第20-21页 |
| ·实验仪器 | 第21页 |
| ·催化剂的制备、光催化性能评价及表征 | 第21-25页 |
| ·催化剂的制备 | 第21-24页 |
| ·以Ti(OC_4H_9)_4 为钛源制备Ti-MMT | 第22-23页 |
| ·以TiCl_4 为钛源制备Ti-MMT | 第23-24页 |
| ·Ti-MMT 样品的表征 | 第24-25页 |
| ·热重分析(TGA) | 第24页 |
| ·X-射线衍射分析(XRD) | 第24页 |
| ·比表面孔隙度分析(BET) | 第24-25页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第25页 |
| ·X-射线能谱仪(EDS) | 第25页 |
| ·催化剂光催化性能评价 | 第25页 |
| ·Ti-MMT 催化活性研究 | 第25页 |
| ·以Ti(OC_4H_9)_4 为钛源制备的Ti-MMT 对其它染料的光催化性能研究 | 第25页 |
| ·结果与讨论 | 第25-54页 |
| ·甲基橙水溶液标准曲线的绘制 | 第25-27页 |
| ·Ti(OC_4H_9)_4 为钛源制备Ti-MMT 催化剂的表征及光催化活性研究 | 第27-45页 |
| ·Ti/MMT(mol/g)比的影响 | 第27-30页 |
| ·陈化时间的影响 | 第30-33页 |
| ·焙烧温度的影响 | 第33-36页 |
| ·超声波和微波处理的影响 | 第36-40页 |
| ·样品TM-10 与TiO_2 的光催化性能比较 | 第40页 |
| ·样品TM-10 重复使用效果 | 第40-41页 |
| ·甲基橙溶液初始浓度对样品TM-10 催化效果的影响 | 第41页 |
| ·甲基橙水溶液初始pH 值对样品TM-10 催化性能的影响 | 第41-42页 |
| ·样品TM-10 用量对催化性能的影响 | 第42页 |
| ·不同光源对样品TM-10 催化性能的影响 | 第42-43页 |
| ·样品TM-10 对其它染料的光催化性能研究 | 第43-45页 |
| ·TiCl_4为钛源制备的 Ti-MMT 催化剂的表征及光催化活性研究 | 第45-54页 |
| ·Ti/MMT 比(mmol/g)的影响 | 第45-48页 |
| ·制备温度的影响 | 第48-52页 |
| ·焙烧温度的影响 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第三章 紫外光光降解有机染料的研究 | 第56-62页 |
| ·引言 | 第56页 |
| ·实验仪器及试剂 | 第56-57页 |
| ·实验试剂 | 第56页 |
| ·实验仪器 | 第56-57页 |
| ·实验部分 | 第57页 |
| ·对甲基橙的降解性能测试 | 第57页 |
| ·对其它染料的降解性能测试 | 第57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-61页 |
| ·对甲基橙的降解性能研究 | 第57-59页 |
| ·甲基橙溶液pH 值对降解性能的影响 | 第59页 |
| ·对其它染料的降解性能研究 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第四章 结论与展望 | 第62-64页 |
| ·结论 | 第62-63页 |
| ·展望 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
