| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| ·我国氢能技术的发展现状 | 第10页 |
| ·氢分离技术 | 第10-11页 |
| ·氢分离技术分类及特点 | 第11-12页 |
| ·氢分离渗透膜的分类 | 第12页 |
| ·氢分离合金膜技术 | 第12-14页 |
| ·本文研究目的及意义 | 第14-16页 |
| 第二章 实验原理及方法 | 第16-28页 |
| ·样品制备 | 第16页 |
| ·物性结构分析及形貌表征 | 第16-17页 |
| ·化学镀钯沉积膜的实验原理 | 第17-18页 |
| ·氢分离扩散膜的机理 | 第18-20页 |
| ·扩散动力学性能研究 | 第20-24页 |
| ·氢扩散系数的电化学测试原理 | 第20-21页 |
| ·氢扩散系数的电化学测试方法 | 第21-24页 |
| ·氢分离膜力学性能的测试 | 第24-25页 |
| ·氢分离膜氢脆原因分析 | 第24页 |
| ·力学性能测试实验及设备 | 第24-25页 |
| ·磁场热处理原理 | 第25-27页 |
| ·研究技术路线图 | 第27-28页 |
| 第三章 化学镀Pd 膜催化层的工艺研究 | 第28-45页 |
| ·Pd 催化层的分离原理 | 第28-29页 |
| ·化学镀Pd 实验过程 | 第29-30页 |
| ·敏化和活化 | 第29页 |
| ·化学镀Pd 实验原理 | 第29-30页 |
| ·温度对镀层的影响 | 第30-32页 |
| ·施镀时间对镀层的影响 | 第32-34页 |
| ·PH 值对镀层镀速及性质的影响 | 第34-37页 |
| ·化学镀Pd 膜镀层的生长机理研究 | 第37-38页 |
| ·化学镀Pd 膜晶化过程的研究 | 第38-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 Nb-Ti-Ni 三元合金氢分离膜中的氢扩散行为研究 | 第45-67页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·合金样品的设计 | 第45-47页 |
| ·合金样品的结构分析 | 第47-50页 |
| ·两相结构合金的结构分析 | 第47-48页 |
| ·三相结构合金的结构分析 | 第48-50页 |
| ·氢分离合金膜片的氢渗透性能测定 | 第50-61页 |
| ·氢扩散系数的电化学实验初始条件推倒 | 第50-53页 |
| ·两相结构合金膜片的氢渗透性能的测定 | 第53-56页 |
| ·三相结构合金膜片的氢渗透性能的测定 | 第56-58页 |
| ·不同相结构对合金膜片的氢渗透性能的影响 | 第58-61页 |
| ·磁场热处理提高合金氢分离性能的实验研究 | 第61-65页 |
| ·磁场热处理在材料制备中的作用 | 第61页 |
| ·磁场热处理实验对氢分离性能的影响 | 第61-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 第五章 Nb-Ti-Ni 三元合金氢分离膜机械性能的研究 | 第67-83页 |
| ·Nb-Ti-Ni 合金氢分离膜氢脆的测定 | 第67-73页 |
| ·Nb-Ti-Ni 合金氢分离膜的力学性能空白试验 | 第67-68页 |
| ·Nb-Ti-Ni 合金氢分离膜氢脆力学测定 | 第68-73页 |
| ·合金断口形貌分析 | 第73-74页 |
| ·磁场热处理对氢分离合金膜力学性能的影响 | 第74-81页 |
| ·水平方向磁场热处理对合金分离膜力学性能的影响 | 第74-77页 |
| ·45°方向磁场热处理对合金分离膜力学性能的影响 | 第77-79页 |
| ·垂直方向磁场热处理对合金分离膜力学性能的影响 | 第79-81页 |
| ·Nb-Ti-Ni 合金的宽滞后形状记忆效应 | 第81-82页 |
| ·本章小结 | 第82-83页 |
| 第六章 全文总结和展望 | 第83-86页 |
| ·本研究的主要结论和创新点 | 第83-84页 |
| ·本研究的意义以及今后的发展方向 | 第84-86页 |
| 参考文献 | 第86-94页 |
| 致谢 | 第94-95页 |
| 作者在攻读硕士期间主要研究成果 | 第95页 |
