| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 有机发光二极管的研究背景 | 第8-9页 |
| 1.2 有机发光二极管的基本原理 | 第9-11页 |
| 1.3 有机发光二极管的阳极界面修饰 | 第11-13页 |
| 1.3.1 阳极ITO界面修饰的研究进展 | 第11-13页 |
| 1.3.2 空穴注入层作为缓冲层在阳极界面修饰中的研究 | 第13页 |
| 1.4 过渡金属氧化物在空穴注入层中的应用 | 第13-14页 |
| 1.5 论文研究的目的和主要内容 | 第14-16页 |
| 1.5.1 论文研究的目的 | 第14-15页 |
| 1.5.2 论文的主要内容 | 第15-16页 |
| 第2章 磷钨氧化物薄膜的制备及性能研究 | 第16-32页 |
| 2.1 实验方法 | 第16-19页 |
| 2.1.1 试剂及仪器 | 第16-17页 |
| 2.1.2 磷钨氧化物薄膜的制备 | 第17-19页 |
| 2.2 磷钨氧化物薄膜性能的测试方法 | 第19-20页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第20-31页 |
| 2.3.1 磷钨酸的溶解性测试 | 第20-22页 |
| 2.3.2 薄膜组成及结构分析 | 第22-24页 |
| 2.3.3 薄膜表面形貌分析 | 第24-26页 |
| 2.3.4 薄膜透光性及导电性能 | 第26-28页 |
| 2.3.5 薄膜功函数分析 | 第28-31页 |
| 2.4 小结 | 第31-32页 |
| 第3章 基于磷钨氧化物薄膜的OLED器件性能研究 | 第32-46页 |
| 3.1 实验方法 | 第32-34页 |
| 3.1.1 试剂及仪器 | 第32-33页 |
| 3.1.2 OLED器件结构及制备 | 第33-34页 |
| 3.2 OLED器件性能测试 | 第34-35页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第35-43页 |
| 3.3.1 不同退火温度处理的磷钨氧化物薄膜的空穴注入效果研究 | 第35-37页 |
| 3.3.2 不同退火温度处理的磷钨氧化物薄膜对器件的影响 | 第37-39页 |
| 3.3.3 不同旋转速度制备的磷钨氧化物薄膜对器件的影响 | 第39-41页 |
| 3.3.4 不同退火氛围处理的磷钨氧化物薄膜对器件的影响 | 第41-43页 |
| 3.4 小结 | 第43-46页 |
| 第4章 基于不同空穴注入层的OLED器件性能研究 | 第46-54页 |
| 4.1 实验方法 | 第46-48页 |
| 4.1.1 试剂及仪器 | 第46-47页 |
| 4.1.2 OLED器件结构及制备 | 第47-48页 |
| 4.2 OLED器件性能测试 | 第48页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第48-53页 |
| 4.3.1 基于不同空穴注入层的OLED器件性能 | 第48-51页 |
| 4.3.2 基于不同退火氛围处理氧化物薄膜的器件性能研究 | 第51-53页 |
| 4.4 小结 | 第53-54页 |
| 第5章 结论与展望 | 第54-56页 |
| 5.1 本文结论 | 第54页 |
| 5.2 展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-64页 |
| 附录 | 第64-66页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
