| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4页 |
| 第1章 绪论 | 第8-24页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 增透膜的研究现状 | 第8-14页 |
| 1.2.1 单一折射率增透膜 | 第9-10页 |
| 1.2.2 渐变折射率增透膜 | 第10-14页 |
| 1.3 硒化锌基片红外增透膜的研究 | 第14-15页 |
| 1.4 渐变折射率可见光增透膜的研究 | 第15-19页 |
| 1.4.1 多孔结构增透膜 | 第15-17页 |
| 1.4.2 空心结构增透膜 | 第17-19页 |
| 1.4.3 多孔结构和空心结构的对比 | 第19页 |
| 1.5 课题的提出及创新之处 | 第19-24页 |
| 1.5.1 课题的提出 | 第19-21页 |
| 1.5.2 研究思路 | 第21-22页 |
| 1.5.3 创新之处 | 第22-24页 |
| 第2章 实验原料与装置 | 第24-34页 |
| 2.1 实验原料 | 第24页 |
| 2.2 实验仪器与设备 | 第24-26页 |
| 2.2.1 脉冲纳秒电光调Q开关Nd:YAG激光器 | 第24-25页 |
| 2.2.2 磁力搅拌器 | 第25页 |
| 2.2.3 超声波清洗器 | 第25页 |
| 2.2.4 分析天平 | 第25页 |
| 2.2.5 高速冷冻离心机 | 第25页 |
| 2.2.6 智能控温磁力搅拌器 | 第25-26页 |
| 2.2.7 匀胶机 | 第26页 |
| 2.2.8 真空干燥箱 | 第26页 |
| 2.2.9 真空管式炉 | 第26页 |
| 2.3 表征与测试仪器 | 第26-28页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第26页 |
| 2.3.2 透射电子显微镜(TEM) | 第26-27页 |
| 2.3.3 X射线衍射仪(XRD) | 第27页 |
| 2.3.4 傅里叶变换红外光谱仪(FTIR) | 第27页 |
| 2.3.5 紫外-可见-近红外分光光度计(UV-vis) | 第27页 |
| 2.3.6 原子力显微镜(AFM) | 第27页 |
| 2.3.7 椭圆偏振仪 | 第27-28页 |
| 2.4 样品制备方法 | 第28-34页 |
| 2.4.1 硒化锌纳米空心球的制备 | 第28-29页 |
| 2.4.2 二氧化硅纳米颗粒的制备 | 第29-30页 |
| 2.4.3 双层渐变增透膜的构建 | 第30-34页 |
| 第3章 高折射率膜层的结构表征及折射率测试 | 第34-44页 |
| 3.1 引言 | 第34页 |
| 3.2 硒化锌纳米空心球的表征 | 第34-37页 |
| 3.3 高折射率膜层的结构表征 | 第37-41页 |
| 3.3.1 旋涂溶剂的影响 | 第38-39页 |
| 3.3.2 退火处理的影响 | 第39-40页 |
| 3.3.3 旋涂转速的影响 | 第40-41页 |
| 3.4 高折射率膜层的折射率测试 | 第41-43页 |
| 3.5 本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 低折射率膜层的结构表征及折射率测试 | 第44-52页 |
| 4.1 引言 | 第44页 |
| 4.2 二氧化硅纳米颗粒模板的表征 | 第44-45页 |
| 4.3 低折射率膜层的结构表征 | 第45-49页 |
| 4.3.1 刻蚀时间对膜层颗粒的影响 | 第46-47页 |
| 4.3.2 刻蚀对膜层透过率的影响 | 第47-48页 |
| 4.3.3 低折射率膜层的表征 | 第48-49页 |
| 4.4 低折射率膜层的折射率测试 | 第49页 |
| 4.5 本章小结 | 第49-52页 |
| 第5章 双层渐变折射率增透膜的结构表征及减反性能研究 | 第52-58页 |
| 5.1 引言 | 第52页 |
| 5.2 双层增透膜的结构表征 | 第52-53页 |
| 5.3 双层增透膜的减反性能测试 | 第53-56页 |
| 5.4 本章小结 | 第56-58页 |
| 第6章 结论与展望 | 第58-60页 |
| 6.1 全文结论 | 第58页 |
| 6.2 展望 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
