| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 金刚石薄膜的性质及其应用 | 第10-12页 |
| 1.2.1 磨损性能与应用 | 第10-11页 |
| 1.2.2 热学性能与应用 | 第11页 |
| 1.2.3 光学性能与应用 | 第11页 |
| 1.2.4 电学性能与应用 | 第11-12页 |
| 1.2.5 声学性能与应用 | 第12页 |
| 1.3 金刚石薄膜的研究现状 | 第12-20页 |
| 1.3.1 CVD金刚石沉积方法 | 第12-18页 |
| 1.3.1.1 热丝化学气相沉积 | 第12-13页 |
| 1.3.1.2 微波等离子体化学气相沉积 | 第13-16页 |
| 1.3.1.3 燃烧火焰化学气相沉积 | 第16-17页 |
| 1.3.1.4 直流电弧等离子喷射化学气相沉积 | 第17页 |
| 1.3.1.5 其它化学气相沉积方法 | 第17-18页 |
| 1.3.2 CVD金刚石工艺研究 | 第18-20页 |
| 1.3.2.1 基板 | 第18-19页 |
| 1.3.2.2 成核方法 | 第19页 |
| 1.3.2.3 前驱体 | 第19-20页 |
| 1.4 研究意义与研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 实验与表征方法 | 第22-31页 |
| 2.1 沉积技术 | 第22-23页 |
| 2.2 实验设备 | 第23-26页 |
| 2.2.1 中频感应加热化学气相沉积 | 第23-24页 |
| 2.2.2 一代中频加热微波等离子体化学气相沉积 | 第24-26页 |
| 2.2.3 二代中频加热微波等离子体化学气相沉积 | 第26页 |
| 2.3 实验设计及工艺路线 | 第26-29页 |
| 2.4 测试方法 | 第29-31页 |
| 2.4.1 X-射线衍射 | 第29页 |
| 2.4.2 扫描电子显微 | 第29页 |
| 2.4.3 激光Raman光谱 | 第29-30页 |
| 2.4.4 X-射线光电子能谱 | 第30-31页 |
| 第三章 金刚石薄膜制备研究 | 第31-67页 |
| 3.1 IHCVD制备金刚石薄膜 | 第31-33页 |
| 3.2 一代IH-MPCVD制备金刚石薄膜 | 第33-35页 |
| 3.3 二代IH-MPCVD制备金刚石薄膜 | 第35-66页 |
| 3.3.1 基板预处理 | 第35-41页 |
| 3.3.1.1 金刚石粉末粒径尺寸和超声时间对成核的影响 | 第37-39页 |
| 3.3.1.2 预处理对Id/In值的影响 | 第39-41页 |
| 3.3.2 沉积温度 | 第41-47页 |
| 3.3.3 气体压强 | 第47-54页 |
| 3.3.4 前驱体比例 | 第54-66页 |
| 3.3.4.1 甲烷氢气比例对薄膜的影响 | 第54-60页 |
| 3.3.4.2 二氧化碳氢气比例对薄膜的影响 | 第60-66页 |
| 3.4 本章小结 | 第66-67页 |
| 第四章 结论 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文、申请专利情况 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79页 |