中文摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
1 绪论 | 第10-20页 |
1.1 有机硅材料的概述 | 第10-11页 |
1.1.1 有机硅化合物的概念 | 第10页 |
1.1.2 有机硅材料的性能 | 第10页 |
1.1.3 有机硅材料的用途 | 第10-11页 |
1.2 普通金属配合物催化烯烃脱氢硅烷化的研究进展 | 第11-14页 |
1.2.1 铁配合物催化烯烃的脱氢硅烷化反应 | 第11-13页 |
1.2.2 钴配合物催化烯烃的脱氢硅烷化反应 | 第13页 |
1.2.3 镍配合物催化烯烃的脱氢硅烷化反应 | 第13-14页 |
1.3 钴催化烯烃硅烷化反应涉及的机理研究 | 第14-17页 |
1.3.1 Chalk-Harrod机理 | 第15页 |
1.3.2 改进的Chalk-Harrod机理 | 第15-17页 |
1.4 本论文选题的目的、意义及主要内容 | 第17-20页 |
2 理论计算基础与计算软件介绍 | 第20-30页 |
2.1 量子化学计算简介 | 第20页 |
2.2 薛定谔方程的建立及其求解与量子力学公设 | 第20-23页 |
2.2.1 单电子原子H的Schr?dinger方程的建立与求解 | 第20-22页 |
2.2.2 单电子分子H_2~+的Schr?dinger方程的建立与求解 | 第22页 |
2.2.3 量子力学公设 | 第22-23页 |
2.3 密度泛函理论简介 | 第23-25页 |
2.3.1 Thomas-Fermi模型 | 第23-24页 |
2.3.2 Hohenberg-Kohn定理 | 第24页 |
2.3.3 Kohn-Sham方程 | 第24-25页 |
2.4 势能面概述 | 第25-27页 |
2.4.1 势能面上临界点的几何性质 | 第25-26页 |
2.4.2 势能面的相交和不相交原理 | 第26-27页 |
2.5 过渡态理论简介 | 第27-28页 |
2.6 内禀反应坐标理论 | 第28-29页 |
2.7 基组 | 第29页 |
2.8 Gaussian软件简介 | 第29-30页 |
3 双亚胺吡啶钴络合物催化烯烃脱氢硅烷化反应的理论研究 | 第30-58页 |
3.1 引言 | 第30-32页 |
3.2 计算方法 | 第32-33页 |
3.3 结果与讨论 | 第33-54页 |
3.3.1 预催化剂(~(Mes)PDI)Co(CH_3)生成真正的催化活性物种(~(Mes)PDI)Co-[Si] | 第34-39页 |
3.3.2 烯烃插入和β-H消除 | 第39-47页 |
3.3.3 生成副产物烷烃 | 第47-49页 |
3.3.4 立体选择性,区位选择性和化学选择性的起源 | 第49-53页 |
3.3.5 溶剂化效应的影响 | 第53-54页 |
3.4 结论 | 第54-58页 |
参考文献 | 第58-64页 |
在校期间研究成果 | 第64-66页 |
致谢 | 第66页 |