| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-23页 |
| ·金属腐蚀与防护简介 | 第12页 |
| ·金属表面处理概述 | 第12-14页 |
| ·锆钛处理 | 第13页 |
| ·有机酸转化膜处理 | 第13页 |
| ·稀土转化膜处理 | 第13-14页 |
| ·金属表面硅烷化处理 | 第14-22页 |
| ·硅烷偶联剂简介 | 第14-15页 |
| ·金属表面硅烷化处理的优势 | 第15页 |
| ·硅烷偶联剂作用机理 | 第15-16页 |
| ·硅烷膜防腐蚀机理 | 第16-17页 |
| ·金属表面的硅烷化处理过程 | 第17-21页 |
| ·金属表面硅烷化处理进展与不足 | 第21-22页 |
| ·本课题研究内容 | 第22-23页 |
| 第2章 实验内容和方法 | 第23-28页 |
| ·实验材料及性状 | 第23-24页 |
| ·实验材料 | 第23页 |
| ·主要材料介绍 | 第23-24页 |
| ·实验仪器 | 第24页 |
| ·主要实验方法 | 第24-28页 |
| ·正交实验 | 第24-25页 |
| ·电化学阻抗谱(EIS) | 第25-26页 |
| ·塔菲尔曲线外推法(Tafel) | 第26-27页 |
| ·电导率分析 | 第27页 |
| ·电喷雾离子化源质谱分析(ESI-MS) | 第27页 |
| ·傅立叶转换红外分析(FT-IR) | 第27页 |
| ·SEM/EDS分析 | 第27-28页 |
| 第3章 水基硅烷化处理液制备及表征 | 第28-36页 |
| ·前言 | 第28页 |
| ·实验 | 第28-29页 |
| ·实验材料 | 第28页 |
| ·水基硅烷化处理液制备 | 第28-29页 |
| ·傅立叶转换红外分析(FTIR) | 第29页 |
| ·电喷雾离子化源质谱分析(ESI-MS) | 第29页 |
| ·水解工艺正交实验 | 第29页 |
| ·结果与讨论 | 第29-35页 |
| ·水解过程电导率分析 | 第29-30页 |
| ·硅烷化处理剂FT-IR | 第30-31页 |
| ·硅烷化处理剂ESI-MS谱 | 第31-32页 |
| ·水解工艺对水基硅烷化处理剂性能的影响 | 第32-35页 |
| ·小结 | 第35-36页 |
| 第4章 基于水基硅烷化处理体系的铝表面BTESPT膜的制备及表征 | 第36-46页 |
| ·前言 | 第36页 |
| ·试验 | 第36-37页 |
| ·水基硅烷化溶液制备 | 第36页 |
| ·铝的硅烷化处理 | 第36-37页 |
| ·结构及化学成分分析 | 第37页 |
| ·电化学分析 | 第37页 |
| ·实验结果与讨论 | 第37-45页 |
| ·微观结构及化学组成 | 第37页 |
| ·硅烷化处理后铝试样在NaCl溶液中的EIS谱 | 第37-41页 |
| ·硅烷化处理后铝试样在NaCl溶液中的Tafel曲线 | 第41-42页 |
| ·电化学辅助沉积硅烷膜的微观形貌 | 第42-43页 |
| ·电化学辅助沉积硅烷膜的EIS谱 | 第43-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| 第5章 碳钢表面硅烷化处理工艺替代磷化工艺的研究 | 第46-54页 |
| ·前言 | 第46页 |
| ·实验 | 第46-47页 |
| ·磷化液组成及工艺参数 | 第46-47页 |
| ·碳钢磷化工艺流程 | 第47页 |
| ·碳钢硅烷化处理 | 第47页 |
| ·微观结构分析 | 第47页 |
| ·化学分析 | 第47页 |
| ·结果与讨论 | 第47-53页 |
| ·碳钢磷化处理正交实验结果 | 第47-48页 |
| ·磷化膜NaCl溶液中电化学行为 | 第48-50页 |
| ·碳钢表面硅烷膜在NaCl溶液中的电化学行为 | 第50-52页 |
| ·硅烷膜结构及表面成分分析 | 第52-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-65页 |
| 附录A (攻读学位期间所发表的学术论文目录) | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |