液态锂与固态铜和钨相互作用的原子模拟
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第17-27页 |
| 1.1 聚变能 | 第17-18页 |
| 1.2 锂、钨、铜在聚变装置中的应用 | 第18-22页 |
| 1.2.1 托卡马克 | 第18-19页 |
| 1.2.2 固体第一壁 | 第19-20页 |
| 1.2.3 液态锂第一壁 | 第20-22页 |
| 1.3 固液界面 | 第22-25页 |
| 1.3.1 固液界面的微观结构 | 第22-23页 |
| 1.3.2 固液界面的扩散特性 | 第23-24页 |
| 1.3.3 液滴在固体表面上的润湿过程 | 第24-25页 |
| 1.4 总结与选题说明 | 第25-27页 |
| 第2章 模型与方法 | 第27-35页 |
| 2.1 分子动力学的基本原理 | 第27-28页 |
| 2.2 数值积分算法 | 第28-30页 |
| 2.3 原子间相互作用势 | 第30-32页 |
| 2.3.1 对势 | 第30页 |
| 2.3.2 EAM势 | 第30-31页 |
| 2.3.3 Finnis-Sinclair势 | 第31-32页 |
| 2.4 系综理论 | 第32-33页 |
| 2.5 边界条件与近邻表 | 第33-34页 |
| 2.6 本章小结 | 第34-35页 |
| 第3章 锂铜钨元素及二元合金的原子间相互作用势 | 第35-52页 |
| 3.1 引言 | 第35-36页 |
| 3.2 元素势的构建 | 第36-44页 |
| 3.2.1 元素势函数的解析表达式 | 第36-38页 |
| 3.2.2 势参数拟合过程 | 第38-39页 |
| 3.2.3 锂、铜、钨元素势的验证 | 第39-44页 |
| 3.3 合金势的构建 | 第44-51页 |
| 3.3.1 合金势的形式 | 第44-45页 |
| 3.3.2 锂-铜合金势参数确定及势的验证 | 第45-49页 |
| 3.3.3 锂钨合金势参数的确定及检验 | 第49-51页 |
| 3.4 本章小节 | 第51-52页 |
| 第4章 固液界面结构 | 第52-73页 |
| 4.1 引言 | 第52页 |
| 4.2 模型与计算方法 | 第52-55页 |
| 4.2.1 初始模型构建 | 第52-54页 |
| 4.2.2 常用物理量的计算 | 第54-55页 |
| 4.3 铜锂固液界面结构特征 | 第55-66页 |
| 4.3.1 铜锂界面处固体结构 | 第55-57页 |
| 4.3.2 铜锂界面处液体锂的法向密度分布 | 第57-58页 |
| 4.3.3 铜锂界面处液体锂的有序化程度 | 第58-59页 |
| 4.3.4 铜锂界面处液态锂层内结构 | 第59-66页 |
| 4.4 钨锂固液界面 | 第66-71页 |
| 4.4.1 钨锂界面处固体结构 | 第66-68页 |
| 4.4.2 钨锂界面处锂的法向密度分布 | 第68-70页 |
| 4.4.3 钨锂界面处液态锂的分层结构 | 第70-71页 |
| 4.5 本章小结 | 第71-73页 |
| 第5章 固液界面扩散机制 | 第73-94页 |
| 5.1 引言 | 第73页 |
| 5.2 模型与方法 | 第73-76页 |
| 5.2.1 固熔界面模型参数 | 第73-74页 |
| 5.2.2 铜锂及钨锂固液界面模型参数 | 第74-75页 |
| 5.2.3 分析方法 | 第75-76页 |
| 5.3 固熔界面 | 第76-81页 |
| 5.3.1 类固体层的结构 | 第76页 |
| 5.3.2 界面处扩散特性 | 第76-79页 |
| 5.3.3 一维随机行走模型 | 第79-80页 |
| 5.3.4 取向效应 | 第80-81页 |
| 5.4 铜-锂界面 | 第81-88页 |
| 5.4.1 长程扩散 | 第81-83页 |
| 5.4.2 短程扩散 | 第83-87页 |
| 5.4.3 扩散系数 | 第87-88页 |
| 5.5 钨-锂固液界面扩散机制 | 第88-92页 |
| 5.5.1 位移分布 | 第88-90页 |
| 5.5.2 短程扩散 | 第90-91页 |
| 5.5.3 扩散系数 | 第91-92页 |
| 5.6 本章小结 | 第92-94页 |
| 第6章 液态锂在钨表面上的润湿特性 | 第94-107页 |
| 6.1 引言 | 第94页 |
| 6.2 模型与参数 | 第94-96页 |
| 6.2.1 液滴锂在光滑钨表面 | 第94-95页 |
| 6.2.2 锂薄膜在光滑的钨表面 | 第95页 |
| 6.2.3 平行刻槽表面 | 第95-96页 |
| 6.2.4 垂直刻槽表面 | 第96页 |
| 6.2.5 预处理表面 | 第96页 |
| 6.3 锂在钨光滑表面的润湿行为 | 第96-99页 |
| 6.3.1 锂在钨光滑表面上的润湿 | 第96-98页 |
| 6.3.2 锂薄膜在钨表面上的反润湿行为 | 第98-99页 |
| 6.4 表面形貌对润湿行为的影响 | 第99-104页 |
| 6.4.1 钨表面刻槽对锂润湿行为的影响 | 第100-102页 |
| 6.4.2 垂直刻槽方式对润湿的影响 | 第102页 |
| 6.4.3 刻槽表面上锂原子的扩散特性 | 第102-104页 |
| 6.5 表面预处理 | 第104-105页 |
| 6.6 本章小结 | 第105-107页 |
| 第7章 结论与展望 | 第107-110页 |
| 参考文献 | 第110-122页 |
| 附录A 攻读博士学位期间所发表的学术论文 | 第122-123页 |
| 致谢 | 第123页 |
