| 中文摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第12-23页 |
| 1.1 金属磁性多层膜的实验研究及应用 | 第12-13页 |
| 1.2 薄膜制备技术简介 | 第13-14页 |
| 1.3 团簇沉积的分子动力学模拟研究情况 | 第14-20页 |
| 1.4 本文研究目的和内容 | 第20-23页 |
| 第二章 分子动力学方法理论基础 | 第23-59页 |
| 2.1 基本原理 | 第23-25页 |
| 2.2 原子间相互作用势函数 | 第25-33页 |
| 2.2.1 对势 | 第25-26页 |
| 2.2.2 多体势 | 第26-33页 |
| 2.3 牛顿运动方程的数值解法 | 第33-36页 |
| 2.3.1 Verlet算法 | 第33-35页 |
| 2.3.2 Gear预测校正算法 | 第35-36页 |
| 2.4 系综描述 | 第36-40页 |
| 2.4.1 微正则系综 | 第36页 |
| 2.4.2 正则系综 | 第36-40页 |
| 2.5 分子动力学模拟的主要技术 | 第40-51页 |
| 2.5.1 积分时间步长的选取 | 第40页 |
| 2.5.2 简化单位 | 第40-41页 |
| 2.5.3 势函数和力场的截断 | 第41-43页 |
| 2.5.4 周期性边界条件及最近镜像 | 第43-45页 |
| 2.5.5 原子间相互作用力的计算 | 第45-48页 |
| 2.5.6 原子作用力计算的优化算法 | 第48-51页 |
| 2.6 分子动力学模拟结果的表征与分析 | 第51-59页 |
| 2.6.1 从微观模拟结果到宏观物理量的计算 | 第52-53页 |
| 2.6.2 微观模拟结果的表征 | 第53-59页 |
| 第三章 分子动力学模拟程序的实现及验证 | 第59-83页 |
| 3.1 分子动力学模拟程序流程 | 第59-61页 |
| 3.2 初始条件 | 第61-66页 |
| 3.2.1 初始位置 | 第61-63页 |
| 3.2.2 初始速度 | 第63-66页 |
| 3.3 势函数的验证 | 第66-69页 |
| 3.4 本文模拟程序的验证 | 第69-80页 |
| 3.4.1 bcc结构Fe的Free EMD模拟程序验证 | 第70-72页 |
| 3.4.2 bcc结构Cu和fcc结构Cu的Free EMD模拟程序验证 | 第72-74页 |
| 3.4.3 Ll_2结构Cu_3Fe和Ll_2结构Fe_3Cu的Free EMD模拟程序验证 | 第74-76页 |
| 3.4.4 原子间相互作用力优化算法的验证 | 第76-78页 |
| 3.4.5 恒温EMD模拟 | 第78-80页 |
| 3.5 本章小结 | 第80-83页 |
| 第四章 Cu团簇软着陆沉积到Fe(001)表面的分子动力学模拟 | 第83-111页 |
| 4.1 模拟计算模型 | 第83-87页 |
| 4.2 团簇软着陆沉积结果分析 | 第87-108页 |
| 4.2.1 原子平均动能随时间演化 | 第87-90页 |
| 4.2.2 团簇的着陆过程 | 第90-93页 |
| 4.2.3 团簇在衬底表面上的扩散 | 第93-97页 |
| 4.2.4 团簇在衬底表面上的重构情况 | 第97-104页 |
| 4.2.5 团簇与衬底之间的相互作用势能 | 第104-105页 |
| 4.2.6 团簇沉积的最终形貌 | 第105-108页 |
| 4.3 本章小结 | 第108-111页 |
| 第五章 初始入射能量范围为0.1～10.0 eV/atom的低能Cu团簇沉积到Fe(001)表面的分子动力学模拟 | 第111-143页 |
| 5.1 模拟计算模型 | 第111-115页 |
| 5.2 模拟结果分析与讨论 | 第115-139页 |
| 5.2.1 原子平均动能随时间的演化 | 第116-118页 |
| 5.2.2 团簇质心高度 | 第118-121页 |
| 5.2.3 团簇沉积微观过程 | 第121-126页 |
| 5.2.4 团簇扩散指数 | 第126-128页 |
| 5.2.5 团簇外延度 | 第128-130页 |
| 5.2.6 团簇与衬底相互作用势能 | 第130-132页 |
| 5.2.7 团簇沉积的最终形貌 | 第132-137页 |
| 5.2.8 当衬底温度为800 K时,模拟时间由40.0 ps延长至1.0 ns对团簇沉积效果的影响 | 第137-139页 |
| 5.3 本章小结 | 第139-143页 |
| 第六章 初始入射能量范围为10.0～30.0 eV/atom的载能Cu团簇沉积到Fe(001)表面的分子动力学模拟 | 第143-166页 |
| 6.1 模拟计算模型 | 第143-146页 |
| 6.2 模拟结果分析与讨论 | 第146-164页 |
| 6.2.1 衬底中缺陷产生数目随时间的演化 | 第147-148页 |
| 6.2.2 团簇沉积微观过程 | 第148-152页 |
| 6.2.3 衬底表面损伤情况 | 第152-157页 |
| 6.2.4 团簇的扩散情况 | 第157-160页 |
| 6.2.5 团簇外延度及团簇与衬底相互作用势能 | 第160-161页 |
| 6.2.6 当衬底温度为800 K时,模拟时间由40.0 ps延长至1.0 ns对团簇沉积效果的影响 | 第161-164页 |
| 6.3 本章小结 | 第164-166页 |
| 第七章 结论 | 第166-171页 |
| 7.1 本文主要结论 | 第166-170页 |
| 7.2 研究展望 | 第170-171页 |
| 参考文献 | 第171-184页 |
| 在学期间的研究成果 | 第184-185页 |
| 致谢 | 第185页 |
