摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-20页 |
1.1 超导材料的发展简介 | 第10-11页 |
1.2 超导体的特性简介 | 第11-12页 |
1.3 YBCO高温超导体及其应用 | 第12-14页 |
1.4 YBCO高温超导薄膜制备方法 | 第14-16页 |
1.4.1 脉冲激光沉积法(PLD) | 第14-15页 |
1.4.2 金属有机沉积法(MOD) | 第15-16页 |
1.4.3 磁控溅射法(Magnetron Sputtering) | 第16页 |
1.5 YBCO超导薄膜国内外研究进展 | 第16-18页 |
1.6 论文研究意义和研究内容 | 第18-20页 |
第二章 制备方法和薄膜的表征方法 | 第20-28页 |
2.1 金属有机化学气相沉积(MOCVD) | 第20-21页 |
2.2 金属有机源的制备 | 第21-23页 |
2.3 薄膜的表征方法 | 第23-28页 |
2.3.1 X射线衍射仪(X-ray diffraction) | 第23-25页 |
2.3.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第25页 |
2.3.3 临界电流密度测试仪 | 第25-26页 |
2.3.4 触针式台阶仪 | 第26-28页 |
第三章 YBCO薄膜成分与结构关系的研究 | 第28-41页 |
3.1 Ba源成分对YBCO结构及性能的调制 | 第28-32页 |
3.1.1 Ba(thmd)2 比例对YBCO超导薄膜晶体结构的影响 | 第29-31页 |
3.1.2 Ba(thmd)2 比例对YBCO超导薄膜表面形貌的影响 | 第31-32页 |
3.1.3 Ba(thmd)2 比例对YBCO超导薄膜临界电流密度(Jc)的影响 | 第32页 |
3.2 Cu源成分对YBCO结构及性能的调制 | 第32-37页 |
3.2.1 Cu(thmd)2 比例对YBCO超导薄膜晶体结构的影响 | 第33-35页 |
3.2.2 Cu(thmd)2 比例对YBCO超导薄膜表面形貌的影响 | 第35-36页 |
3.2.3 Cu(thmd)2 比例对YBCO超导薄膜临界电流密度(Jc)的影响 | 第36-37页 |
3.3 Y源成分对YBCO结构及性能的调制 | 第37-40页 |
3.3.1 Y(tmhd)3 比例对YBCO超导薄膜晶体结构的影响 | 第37-38页 |
3.3.2 Y(thmd)3 比例对YBCO超导薄膜表面形貌的影响 | 第38-39页 |
3.3.3 Y(tmhd)3 源成分对YBCO超导薄膜临界电流密度的影响 | 第39-40页 |
3.4 本章小结 | 第40-41页 |
第四章 生长工艺与YBCO超导薄膜性能的研究 | 第41-51页 |
4.1 沉积温度对YBCO超导薄膜结构和性能的影响 | 第41-44页 |
4.1.1 沉积温度对YBCO晶体结构的影响 | 第42-43页 |
4.1.2 沉积温度对YBCO表面形貌的影响 | 第43-44页 |
4.1.3 沉积温度对YBCO临界电流密度的影响 | 第44页 |
4.2 厚度对YBCO超导薄膜结构和性能的影响 | 第44-50页 |
4.2.1 厚度对YBCO超导薄膜晶体结构的影响 | 第45-47页 |
4.2.2 厚度对YBCO超导薄膜表面形貌的影响 | 第47-49页 |
4.2.3 厚度对YBCO超导薄膜临界电流密度的影响 | 第49-50页 |
4.3 本章小结 | 第50-51页 |
第五章 YBCO超导薄膜的磁通钉扎研究 | 第51-59页 |
5.1 磁通钉扎简介 | 第51-53页 |
5.2 Gd掺杂YBCO超导薄膜的磁通钉扎 | 第53-57页 |
5.2.1 Gd掺杂对YBCO超导薄膜晶体结构的影响 | 第53-55页 |
5.2.2 Gd掺杂对YBCO超导薄膜表面形貌的影响 | 第55-56页 |
5.2.3 Gd掺杂对YBCO超导薄膜临界电流密度的影响 | 第56-57页 |
5.3 本章小结 | 第57-59页 |
第六章 金属基带上YBCO薄膜制备工艺研究 | 第59-65页 |
6.1 YYC缓冲层的简介 | 第59-61页 |
6.2 MOCVD法在YYC缓冲层YBCO薄膜的制备 | 第61-63页 |
6.2.1 YYC缓冲层上YBCO薄膜晶体结构分析 | 第61-63页 |
6.2.2 YYC缓冲层上YBCO薄膜表面形貌分析 | 第63页 |
6.2.3 YYC缓冲层上YBCO临界电流密度分析 | 第63页 |
6.3 本章小结 | 第63-65页 |
第七章 结论 | 第65-66页 |
致谢 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-71页 |
攻读硕士学位期间取得的成果 | 第71-72页 |