| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 研究工作的背景与意义 | 第10页 |
| 1.2 国内外研究现状与与进展 | 第10-15页 |
| 1.3 选题依据 | 第15页 |
| 1.4 研究内容 | 第15-17页 |
| 第二章 TaN膜桥的制备及性能研究 | 第17-40页 |
| 2.1 TaN膜桥结构 | 第17-18页 |
| 2.2 TaN薄膜的制备 | 第18-22页 |
| 2.2.1 基片温度对TaN薄膜沉积速率及电阻率的影响 | 第18-19页 |
| 2.2.3 溅射功率对TaN薄膜沉积速率及电阻率的影响 | 第19-20页 |
| 2.2.4 氮气流量百分比对TaN薄膜沉积速率及电阻率的影响 | 第20页 |
| 2.2.5 氮气流量百分比对TaN薄膜相结构及电阻温度系数的影响 | 第20-22页 |
| 2.3 TaN膜桥湿法刻蚀工艺研究 | 第22-26页 |
| 2.3.1 TaN刻蚀工艺流程 | 第22-23页 |
| 2.3.2 腐蚀液温度对TaN薄膜腐蚀速率的影响 | 第23-24页 |
| 2.3.3 硝酸/氢氟酸配比对TaN薄膜腐蚀速率的影响 | 第24-26页 |
| 2.3.4 腐蚀液浓度对TaN薄膜腐蚀速率的影响 | 第26页 |
| 2.4 TaN膜桥的制备 | 第26-29页 |
| 2.5 TaN膜桥点火性能恒流测试 | 第29-31页 |
| 2.5.1 恒流点火测试系统 | 第29页 |
| 2.5.2 桥区尺寸对TaN膜桥点火效果的影响 | 第29-30页 |
| 2.5.3 点火电流对TaN膜桥点火性能的影响 | 第30-31页 |
| 2.6 TaN膜桥点火性能电容测试 | 第31-38页 |
| 2.6.1 电容点火测试系统 | 第31-32页 |
| 2.6.2 桥区尺寸对TaN膜桥点火性能的影响 | 第32-35页 |
| 2.6.3 点火电压对TaN膜桥点火效果的影响 | 第35-38页 |
| 2.7 本章小结 | 第38-40页 |
| 第三章 B/Ti反应多层膜和高压开关的的制备及性能研究 | 第40-52页 |
| 3.1 B/Ti反应多层膜高压开关结构 | 第40-41页 |
| 3.2 B薄膜制备工艺研究 | 第41-43页 |
| 3.2.1 溅射气压对B薄膜沉积速率的影响 | 第41-42页 |
| 3.2.2 溅射功率对B薄膜沉积速率的影响 | 第42页 |
| 3.2.3 基片温度对B薄膜沉积速率的影响 | 第42-43页 |
| 3.3 Ti薄膜制备工艺研究 | 第43-45页 |
| 3.3.1 溅射气压对Ti薄膜沉积速率的影响 | 第43-44页 |
| 3.3.2 溅射功率对Ti薄膜沉积速率的影响 | 第44页 |
| 3.3.3 基片温度对Ti薄膜沉积速率的影响 | 第44-45页 |
| 3.4 B/Ti反应多层膜桥的制备及性能研究 | 第45-46页 |
| 3.4.1 B/Ti反应多层膜桥的制备流程 | 第45-46页 |
| 3.4.2 B/Ti多层膜SEM断面分析 | 第46页 |
| 3.5 B/Ti反应多层膜桥恒流点火测试 | 第46-47页 |
| 3.6 B/Ti含能膜桥电容点火测试 | 第47-51页 |
| 3.7 本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 (B/Ti)n/TaN点火桥的制备及性能研究 | 第52-60页 |
| 4.1 (B/Ti)n/TaN点火桥结构 | 第52页 |
| 4.2 (B/Ti)n/TaN点火桥的制备 | 第52-53页 |
| 4.3 (B/Ti)n/TaN点火桥恒流点火测试 | 第53-54页 |
| 4.4 (B/Ti)n/TaN点火桥电容点火测试 | 第54-59页 |
| 4.5 本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 结论与展望 | 第60-62页 |
| 5.1 结论 | 第60-61页 |
| 5.2 未来与展望 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 硕士研究生期间取得的研究成果 | 第66-67页 |
