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非晶硅薄膜红外特性与制备工艺研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 绪论第10-15页
    1.1 非晶硅薄膜研究现状和发展趋势第10-11页
    1.2 PECVD工艺装备背景第11-13页
    1.3 论文研究的主要内容和结构第13-15页
第二章 非晶硅薄膜的基本性质以及相关研究手段第15-22页
    2.1 非晶硅薄膜的基本性质第15-16页
    2.2 PECVD沉积非晶硅薄膜基本原理第16-18页
    2.3 薄膜制备和测试方法第18-21页
        2.3.1 薄膜沉积设备PECVD第18页
        2.3.2 傅里叶红外光谱仪第18-20页
        2.3.3 膜厚测试设备台阶仪第20-21页
    2.4 本章小结第21-22页
第三章 非晶硅薄膜热光系数理论研究第22-33页
    3.1 热光系数简介第22页
    3.2 非晶硅热光系数的单振子模型分析第22-26页
        3.2.1 非晶硅单振子模型简介第22-23页
        3.2.2 单振子模型下非晶硅的热光系数公式第23-24页
        3.2.3 非晶硅单振子模型下各参数仿真和分析第24-26页
    3.3 氢含量对非晶硅热光系数的影响第26-32页
        3.3.1 低氢含量下非晶硅热光系数的建模仿真与分析第27-30页
        3.3.2 高氢含量下非晶硅热光系数的建模仿真与分析第30-32页
    3.4 本章小结第32-33页
第四章 制备工艺对非晶硅薄膜红外响应特性影响研究第33-41页
    4.1 非晶硅薄膜红外响应特性第33-34页
    4.2 实验设计与结果分析第34-39页
        4.2.1 实验设计第34-35页
        4.2.2 射频功率对非晶硅薄膜红外响应特性的影响第35-37页
        4.2.3 基片温度对非晶硅薄膜红外响应特性的影响第37-38页
        4.2.4 沉积压强对非晶硅薄膜红外响应特性的影响第38-39页
    4.3 本章小结第39-41页
第五章 利用气流场模型对制备非晶硅薄膜的厚度均匀性的研究第41-56页
    5.1 非晶硅薄膜厚度均匀性对可调谐F-P薄膜滤波器性能的影响第41-43页
    5.2 PECVD反应室的气流场模拟分析第43-50页
        5.2.1 流体动力学仿真软件Fluent第43-44页
        5.2.2 建立PECVD反应室模型第44-47页
        5.2.3 进气速度对气流场均匀性的影响第47-49页
        5.2.4 极板间距对气流场均匀性的影响第49-50页
    5.3 实验设计与结果分析第50-54页
    5.4 本章小结第54-56页
第六章 总结第56-58页
致谢第58-59页
参考文献第59-62页
攻读硕士期间研究成果第62-63页

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