| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 研究背景与意义 | 第10-11页 |
| 1.2 电子回旋脉塞机理 | 第11-13页 |
| 1.3 各种电子枪简介 | 第13-14页 |
| 1.4 磁控注入电子枪 | 第14-15页 |
| 1.5 本文的主要工作内容 | 第15-17页 |
| 第二章 强流电子光学基础 | 第17-30页 |
| 2.1 电子光学系统基本理论 | 第17-24页 |
| 2.1.1 基本方程 | 第17-18页 |
| 2.1.2 静电场分析 | 第18-20页 |
| 2.1.3 轴对称静磁场分析 | 第20-22页 |
| 2.1.4 电子运动方程 | 第22-23页 |
| 2.1.5 电子轨迹方程 | 第23-24页 |
| 2.2 回旋脉塞电子光学理论 | 第24-28页 |
| 2.2.1 线圈磁场模拟理论 | 第24-27页 |
| 2.2.2 绝热压缩作用 | 第27-28页 |
| 2.3 电子光学模拟分析软件 | 第28-29页 |
| 2.4 本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章W波段单阳极磁控注入电子枪设计 | 第30-47页 |
| 3.1 电子枪设计的基本要求 | 第33-35页 |
| 3.2 单阳极MIG结构参数设计与优化 | 第35-38页 |
| 3.2.1 磁场参数 | 第35-37页 |
| 3.2.2 磁控注入电子枪的结构参数 | 第37-38页 |
| 3.3 优化结果分析 | 第38-46页 |
| 3.3.1 电子注运动轨迹 | 第39-40页 |
| 3.3.2 电子注径向分布 | 第40-42页 |
| 3.3.3 电子枪区能量交换 | 第42-44页 |
| 3.3.4 过渡区能量转换 | 第44-46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 电子枪参数对电子注性能影响与多频点电子枪研究 | 第47-58页 |
| 4.1 单阳极磁控注入电子枪的优化 | 第47-53页 |
| 4.1.1 电压对单阳极磁控注入电子枪电子注性能的影响 | 第47-48页 |
| 4.1.2 电流对电子注性能的影响 | 第48-49页 |
| 4.1.3 阴阳极相对位置对电子注性能的影响 | 第49-51页 |
| 4.1.4 阴极区域磁场对电子注参数的影响 | 第51-53页 |
| 4.2 多频点单阳极磁控注入电子枪的研究 | 第53-57页 |
| 4.2.1 研究背景和意义 | 第53-54页 |
| 4.2.2 研究方法和研究成果 | 第54-57页 |
| 4.3 本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 总结 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第63-64页 |