| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7页 |
| 1 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 课题背景及研究意义 | 第10-11页 |
| 1.2 基于波带片的X射线显微成像技术 | 第11-16页 |
| 1.2.1 全场透射式X射线显微技术 | 第11-12页 |
| 1.2.2 扫描透射式X射线显微技术 | 第12-13页 |
| 1.2.3 X射线显微成像技术的应用 | 第13-16页 |
| 1.3 X射线波带片的发展 | 第16-19页 |
| 1.3.1 软X射线波带片 | 第16-17页 |
| 1.3.2 硬X射线波带片 | 第17-19页 |
| 1.4 X射线波带片的主要制作方法 | 第19-21页 |
| 1.4.1 激光全息曝光法 | 第19页 |
| 1.4.2 电子束光刻法 | 第19-20页 |
| 1.4.3 溅射切片法 | 第20页 |
| 1.4.4 原子层沉积切割法 | 第20-21页 |
| 1.5 本文的主要研究内容 | 第21-22页 |
| 2 X射线波带片的理论计算与结构设计 | 第22-34页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 X射线波带片的理论计算 | 第22-27页 |
| 2.2.1 基本参数 | 第22-25页 |
| 2.2.2 X射线波带片一级衍射效率理论计算 | 第25-27页 |
| 2.3 原子层沉积切割法制备X射线波带片的材料选取 | 第27-31页 |
| 2.4 X射线波带片的结构设计 | 第31-33页 |
| 2.5 本章小结 | 第33-34页 |
| 3 原子层沉积切割法制备X射线波带片 | 第34-66页 |
| 3.1 引言 | 第34页 |
| 3.2 原子层沉积技术 | 第34-37页 |
| 3.3 原子层沉积切割法制作X射线波带片的方案 | 第37-40页 |
| 3.3.1 重金属细丝表面多层膜结构的沉积方式 | 第37-39页 |
| 3.3.2 微孔结构内部多层膜结构的沉积方式 | 第39-40页 |
| 3.4 原子层沉积技术对硅基衬底表面多层膜结构制备 | 第40-54页 |
| 3.4.1 试剂与仪器设备 | 第40-41页 |
| 3.4.2 氧化铝和氧化铪薄膜的沉积速率研究 | 第41-45页 |
| 3.4.3 氧化铝和氧化铪薄膜成分分析 | 第45-48页 |
| 3.4.4 氧化铝和氧化铪薄膜的粗糙度考察 | 第48-52页 |
| 3.4.5 ALD技术制备多层膜叠层结构 | 第52-54页 |
| 3.5 原子层沉积技术对X射线波带片的制备及表征 | 第54-64页 |
| 3.5.1 电化学腐蚀抛光制备中心衬底丝 | 第54-56页 |
| 3.5.2 原子层沉积技术对X射线波带片多层膜结构的制备 | 第56-59页 |
| 3.5.3 X射线波带片叠层结构的切割、抛光 | 第59-61页 |
| 3.5.4 X射线波带片多层膜结构的性能表征 | 第61-62页 |
| 3.5.5 X射线波带片的性能测试方法 | 第62-64页 |
| 3.6 本章小结 | 第64-66页 |
| 4 总结与展望 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 作者简历及攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第72-74页 |
| 学位论文数据集 | 第74页 |
