| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-13页 |
| 1.1 选题背景及研究的目的和意义 | 第8-9页 |
| 1.1.1 课题的来源 | 第8页 |
| 1.1.2 课题研究的目的和意义 | 第8-9页 |
| 1.2 界面吸附国内外研究现状 | 第9-11页 |
| 1.3 清洗技术研究现状 | 第11页 |
| 1.4 本课题主要研究内容 | 第11-13页 |
| 第2章 分子动力学模拟方法及清洗工艺 | 第13-21页 |
| 2.1 引言 | 第13页 |
| 2.2 分子动力学方法简述 | 第13-17页 |
| 2.2.1 基本原理 | 第13-14页 |
| 2.2.2 分子动力学模拟的步骤 | 第14-15页 |
| 2.2.3 原子间的相互作用 | 第15页 |
| 2.2.4 分子动力学模拟软件 LAMMPS 介绍 | 第15-16页 |
| 2.2.5 分子动力学仿真结果分析工具 | 第16-17页 |
| 2.3 终端光学组件洁净清洗工艺简述 | 第17-20页 |
| 2.3.1 不锈钢组件洁净清洗工艺 | 第17-18页 |
| 2.3.2 铝合金组件洁净清洗工艺 | 第18页 |
| 2.3.3 终端光学组件的粗清洗工艺 | 第18-19页 |
| 2.3.4 终端光学组件的超声波清洗工艺 | 第19-20页 |
| 2.3.5 终端光学组件的烘干工艺 | 第20页 |
| 2.4 本章小结 | 第20-21页 |
| 第3章 洁净清洗工艺实验及 XPS 检测研究 | 第21-30页 |
| 3.1 前言 | 第21页 |
| 3.2 水膜破裂法 | 第21-22页 |
| 3.3 实验方法与设备 | 第22页 |
| 3.4 不同因素对组件表面水膜形成能力或接触角大小的影响 | 第22-27页 |
| 3.4.1 空气洁净度等级对工件表面水接触角大小的影响 | 第22-23页 |
| 3.4.2 烘干工艺对工件表面水滴接触角大小的影响 | 第23-25页 |
| 3.4.3 材料对工件表面水膜形成能力的影响 | 第25-27页 |
| 3.5 清洗前后工件表面 XPS 实验检测研究 | 第27-29页 |
| 3.5.1 清洗前试件碳元素的 XPS 分析 | 第27-28页 |
| 3.5.2 清洗后碳元素的 XPS 能谱分析 | 第28-29页 |
| 3.6 本章小结 | 第29-30页 |
| 第4章 水在铝表面吸附的分子动力学模拟 | 第30-44页 |
| 4.1 前言 | 第30页 |
| 4.2 表面润湿性相关理论 | 第30-31页 |
| 4.3 微观接触角的测量方法 | 第31页 |
| 4.4 水在完美铝表面的吸附 | 第31-38页 |
| 4.4.1 建模及模拟计算方法 | 第31-33页 |
| 4.4.2 平衡条件判断 | 第33-34页 |
| 4.4.3 水在完美铝表面的吸附过程分析 | 第34-35页 |
| 4.4.4 水在完美铝表面吸附的稳定状态分析 | 第35-38页 |
| 4.5 表面纳米结构对水吸附的影响 | 第38-42页 |
| 4.5.1 沟槽结构模拟组别构建 | 第39页 |
| 4.5.2 槽的宽度对水吸附的影响 | 第39-41页 |
| 4.5.3 槽的深度对水吸附的影响 | 第41-42页 |
| 4.6 本章小结 | 第42-44页 |
| 第5章 油在 Al2O3表面吸附和去除机理的分子动力学研究 | 第44-62页 |
| 5.1 引言 | 第44页 |
| 5.2 OPLS 及 CLAFF 力场 | 第44-45页 |
| 5.3 油分子在三氧化二铝表面的吸附 | 第45-50页 |
| 5.3.1 建模及模拟方法 | 第45-47页 |
| 5.3.2 计算结果与讨论 | 第47-50页 |
| 5.4 油分子在清洗剂作用下从基底表面脱离过程仿真研究 | 第50-60页 |
| 5.4.1 建模及模拟方法 | 第50-51页 |
| 5.4.2 模拟结果与讨论 | 第51-60页 |
| 5.5 本章小结 | 第60-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
