| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-23页 |
| ·纳米科学技术 | 第9-10页 |
| ·Au/SiO_2 纳米颗粒膜研究现状 | 第10-15页 |
| ·SiO_2 纳米线研究概述 | 第15-19页 |
| ·纳米SiO_2 的结构及特性 | 第19-21页 |
| ·选题依据 | 第21-23页 |
| 第二章 实验设备与测试方法 | 第23-29页 |
| ·实验设备 | 第23-25页 |
| ·实验材料 | 第25页 |
| ·样品的测试手段 | 第25-29页 |
| 第三章 磁控溅射制备Au/SiO_2纳米颗粒膜 | 第29-35页 |
| ·Au/SiO_2 纳米颗粒膜的制备 | 第29页 |
| ·退火时间对Au/SiO_2 纳米颗粒膜形貌和结构的影响 | 第29-33页 |
| ·Au/SiO_2 纳米颗粒膜的光致发光（PL）特性研究 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 磁控溅射制备SiO_2纳米线 | 第35-39页 |
| ·SiO_2 纳米线的制备 | 第35页 |
| ·SiO_2 纳米线的测试和表征 | 第35-37页 |
| ·SiO_2 纳米线的生长机制初探 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第五章 全文总结 | 第39-41页 |
| ·本文的主要研究结果 | 第39-40页 |
| ·对今后工作的建议 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-47页 |
| 论文作者在学期间发表的学术论文目录 | 第47-49页 |
| 致谢 | 第49页 |