| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 注释表 | 第11-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-29页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 多铁性材料概述 | 第12-19页 |
| 1.2.1 铁电性与自发极化 | 第12-13页 |
| 1.2.2 铁磁性与自发磁化 | 第13-14页 |
| 1.2.3 多铁性与磁电效应 | 第14-16页 |
| 1.2.4 单相多铁性材料的分类 | 第16-19页 |
| 1.3 单相铁性材料铁酸铋 BiFeO_3的研究进展 | 第19-28页 |
| 1.3.1 BiFeO_3的晶体结构与基本铁性 | 第19-21页 |
| 1.3.2 纯相 BiFeO_3薄膜的多铁性能 | 第21-22页 |
| 1.3.3 掺杂 BiFeO_3薄膜的研究进展 | 第22-24页 |
| 1.3.4 BiFeO_3薄膜半导体性的研究进展 | 第24-26页 |
| 1.3.5 BiFeO_3薄膜光伏效应的研究进展 | 第26-28页 |
| 1.4 本论文的主要研究内容 | 第28-29页 |
| 第二章 BiFeO_3基薄膜样品的制备工艺及性能表征 | 第29-39页 |
| 2.1 薄膜的几种制备工艺简介 | 第29-31页 |
| 2.1.1 磁控溅射法 | 第29页 |
| 2.1.2 溶胶凝胶法(Sol-Gel) | 第29-30页 |
| 2.1.3 脉冲激光沉积法(PLD) | 第30-31页 |
| 2.2 固相烧结法制备 BFO 基陶瓷靶材 | 第31-33页 |
| 2.2.1 实验原料及设备 | 第31-32页 |
| 2.2.2 陶瓷靶材的制备工艺 | 第32-33页 |
| 2.3 脉冲激光沉积法制备 BFO 基薄膜 | 第33-36页 |
| 2.3.1 PLD 技术的实验原理 | 第33-34页 |
| 2.3.2 PLD 法制备薄膜的生长工艺 | 第34-35页 |
| 2.3.3 薄膜电极的制备 | 第35-36页 |
| 2.4 BFO 基薄膜的结构性能表征 | 第36-39页 |
| 2.4.1 X 射线衍射分析 | 第36页 |
| 2.4.2 扫描探针显微镜分析 | 第36-38页 |
| 2.4.3 铁电性能测试 | 第38页 |
| 2.4.4 磁学性能测试 | 第38页 |
| 2.4.5 光学透射谱测试 | 第38-39页 |
| 第三章 外延 BiFeO_3基薄膜的制备与性能分析 | 第39-51页 |
| 3.1 引言 | 第39页 |
| 3.2 0.9BFO-0.1TMO 陶瓷靶材 | 第39-40页 |
| 3.3 衬底材料和温度对 0.9BFO-0.1TMO 薄膜性质的影响 | 第40-44页 |
| 3.3.1 物相分析 | 第40-41页 |
| 3.3.2 表面形貌分析 | 第41-42页 |
| 3.3.3 压电性能测试 | 第42-43页 |
| 3.3.4 铁电性能测试 | 第43-44页 |
| 3.4 底电极对外延 0.9BFO-0.1TMO 薄膜性质的影响 | 第44-50页 |
| 3.4.1 物相分析 | 第45页 |
| 3.4.2 表面形貌分析 | 第45-46页 |
| 3.4.3 压电性能测试 | 第46-48页 |
| 3.4.4 铁电性能测试 | 第48-50页 |
| 3.5 本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 BiFeO_3-YMnO_3体系薄膜的织构及性能研究 | 第51-59页 |
| 4.1 引言 | 第51页 |
| 4.2 BFO-YMO 固溶体系薄膜的制备 | 第51页 |
| 4.3 BFO-YMO 固溶体系薄膜的结构及性能研究 | 第51-58页 |
| 4.3.1 物相分析 | 第51-52页 |
| 4.3.2 表面形貌分析 | 第52-53页 |
| 4.3.3 铁电性能测试 | 第53-54页 |
| 4.3.4 磁学性能测试 | 第54-56页 |
| 4.3.5 透射谱分析 | 第56-58页 |
| 4.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 总结与展望 | 第59-61页 |
| 5.1 本论文的主要结论 | 第59-60页 |
| 5.2 对未来工作的展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第68页 |
