摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
引言 | 第10-13页 |
第一章 综述 | 第13-31页 |
§1.1 论文研究背景及意义 | 第13-25页 |
§1.1.1 金属储氚材料及中子管靶材的氦行为研究现状 | 第13-15页 |
§1.1.2 金属材料中的氦行为基础 | 第15-17页 |
§1.1.3 材料中的引氦方法及相关研究 | 第17-22页 |
§1.1.4 聚变堆材料的研究 | 第22-23页 |
§1.1.5 聚变堆结构材料的辐照模拟技术 | 第23-25页 |
§1.2 本文的工作和研究亮点 | 第25-26页 |
参考文献 | 第26-31页 |
第二章 实验表征方法 | 第31-55页 |
§2.1 离子束分析方法(IBA) | 第31-39页 |
§2.1.1 卢瑟福背散射分析(RBS) | 第32-36页 |
§2.1.2 弹性反冲探测(ERD) | 第36-39页 |
§2.2 氦的热脱附谱(TDS) | 第39-41页 |
§2.3 X射线衍射(XRD) | 第41-45页 |
§2.3.1 XRD原理介绍 | 第41-42页 |
§2.3.2 同步辐射XRD掠入射衍射实验简介 | 第42-45页 |
§2.4 正电子湮灭技术(PAT) | 第45-47页 |
§2.5 扫描电子显微镜(SEM) | 第47-48页 |
§2.6 原子力显微镜(AFM) | 第48-50页 |
§2.7 透射电子显微镜(TEM) | 第50-53页 |
参考文献 | 第53-55页 |
第三章 ECR等离子体辅助磁控溅射制备含氦薄膜 | 第55-82页 |
§3.1 磁控溅射技术介绍 | 第56-59页 |
§3.2 ECR等离子体辅助磁控溅射系统介绍 | 第59-61页 |
§3.3 传统磁控溅射制备含氦钛膜的性质分析 | 第61-67页 |
§3.4 ECR等离子体辅助磁控溅射制备含氦钛膜的性质分析 | 第67-72页 |
§3.5 ECR辅助磁控溅射系统的改进 | 第72-75页 |
§3.6 改进的ECR辅助磁控溅射法模拟氚时效行为 | 第75-79页 |
§3.7 本章小结 | 第79-80页 |
参考文献 | 第80-82页 |
第四章 MAX相材料带电粒子辐照行为的研究 | 第82-120页 |
§4.1 粒子辐照效应介绍 | 第83-90页 |
§4.1.1 带电粒子在固体内的慢化 | 第83-84页 |
§4.1.2 辐照引起的缺陷 | 第84-85页 |
§4.1.3 离位原子损伤机理 | 第85-86页 |
§4.1.4 离位峰、热峰效应 | 第86-88页 |
§4.1.5 辐照损伤DPA的计算 | 第88-89页 |
§4.1.6 中子和重离子的损伤随深度分布特征 | 第89-90页 |
§4.2 Ti_3SiC_2 MAX相材料介绍 | 第90-95页 |
§4.2.1 几种聚变堆结构材料特性 | 第90-91页 |
§4.2.2 MAX相材料结构与特性 | 第91-93页 |
§4.2.3 块体MAX相材料的几种常见制备方法 | 第93-95页 |
§4.3 碘离子辐照Ti_3SiC_2MAX相材料的研究 | 第95-107页 |
§4.3.1 Ti_3SiC_2样品的制备 | 第95-96页 |
§4.3.2 高能碘离子辐照Ti_3SiC_2样品的实验参数 | 第96-97页 |
§4.3.3 高能碘离子辐照Ti_3SiC_2样品的掠入射XRD分析 | 第97-98页 |
§4.3.4 高能碘离子辐照Ti_3SiC_2样品的慢正电子湮灭分析 | 第98-104页 |
§4.3.5 高能碘离子辐照Ti_3SiC_2样品的AFM,SEM、EDX分析 | 第104-106页 |
§4.3.6 高能碘离子辐照Ti_3SiC_2样品的退火效应 | 第106-107页 |
§4.4 自离子(Ti,Si,C)辐照MAX相材料的研究 | 第107-116页 |
§4.4.1 Ti离子辐照MAX相材料Ti_3SiC_2的研究 | 第109-111页 |
§4.4.2 Si离子辐照MAX相材料Ti_3SiC_2的研究 | 第111-113页 |
§4.4.3 C离子辐照MAX相材料Ti_3SiC_2的研究 | 第113-115页 |
§4.4.4 Si离子辐照TiAlC_2和Ti_3AlC_2的PAS分析 | 第115-116页 |
§4.5 小结 | 第116-117页 |
参考文献 | 第117-120页 |
第五章 含氦MAX相材料的研究 | 第120-131页 |
§5.1 MAX相材料的氦离子注入研究 | 第121-126页 |
§5.1.1 氦离子注入的GIXRD表征 | 第122-124页 |
§5.1.2 氦离子注入的PAS表征 | 第124-126页 |
§5.2 He、Si离子的协同辐照研究 | 第126-129页 |
§5.2.1 He、Si离子的协同辐照的GIXRD表征 | 第127-129页 |
§5.2.2 He、Si离子的协同辐照的PAS表征 | 第129页 |
§5.3 小结 | 第129-130页 |
参考文献 | 第130-131页 |
第六章 总结和展望 | 第131-135页 |
致谢 | 第135-136页 |
攻读博士学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第136-137页 |