电磁层析成像关键技术仿真研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 电磁检测技术发展概况 | 第9-11页 |
| 1.2 电磁层析成像技术发展概况 | 第11-13页 |
| 1.2.1 信号提取及正问题仿真研究 | 第11页 |
| 1.2.2 EMT 技术逆问题研究 | 第11-13页 |
| 1.2.3 EMT 技术屏蔽层研究 | 第13页 |
| 1.3 电磁层析成像系统工作原理及基本结构 | 第13-15页 |
| 1.3.1 电磁层析成像系统工作原理 | 第13-14页 |
| 1.3.2 电磁层析成像系统基本结构 | 第14-15页 |
| 1.4 电磁层析成像技术的应用前景 | 第15-16页 |
| 1.5 本论文的主要研究内容 | 第16页 |
| 1.6 本论文的组织结构 | 第16-18页 |
| 第二章 电磁层析成像技术理论基础 | 第18-24页 |
| 2.1 电磁层析成像技术的数学基础 | 第18-19页 |
| 2.2 电磁层析成像技术的正问题和逆问题 | 第19-24页 |
| 2.2.1 电磁层析成像技术正问题描述 | 第20-23页 |
| 2.2.2 电磁层析成像技术逆问题描述 | 第23-24页 |
| 第三章 用于电磁断层成像的数据选取分析 | 第24-42页 |
| 3.1 三维有限元仿真模型 | 第24-26页 |
| 3.1.1 三维仿真模型 | 第24-25页 |
| 3.1.2 仿真测量值 | 第25-26页 |
| 3.2 二维有限元仿真模型 | 第26-27页 |
| 3.2.1 二维仿真模型 | 第26页 |
| 3.2.2 仿真测量值 | 第26-27页 |
| 3.3 针对电导率特性成像的数据选取仿真研究 | 第27-36页 |
| 3.3.1 三维仿真结果 | 第27-31页 |
| 3.3.2 二维仿真结果 | 第31-35页 |
| 3.3.3 解析解验证 | 第35-36页 |
| 3.4 针对磁导率特性成像的数据选取仿真研究 | 第36-40页 |
| 3.4.1 三维仿真结果 | 第36-38页 |
| 3.4.2 二维仿真结果 | 第38-40页 |
| 3.5 数据选取分析结论 | 第40-42页 |
| 第四章 电磁层析成像技术逆问题仿真研究 | 第42-59页 |
| 4.1 灵敏度系数矩阵的定义及计算 | 第42-45页 |
| 4.1.1 灵敏度系数矩阵的定义 | 第42-43页 |
| 4.1.2 半解析法建立灵敏度矩阵 | 第43-44页 |
| 4.1.3 有限元模型仿真法建立灵敏度矩阵 | 第44-45页 |
| 4.2 图像重建原理 | 第45-46页 |
| 4.3 基于截断奇异值的灵敏度系数法 | 第46-51页 |
| 4.3.1 算法原理 | 第46-47页 |
| 4.3.2 成像结果及分析 | 第47-51页 |
| 4.4 Tikhonov 正则化法 | 第51-53页 |
| 4.4.1 算法原理 | 第51页 |
| 4.4.2 成像结果及分析 | 第51-53页 |
| 4.5 共轭梯度迭代法 | 第53-56页 |
| 4.5.1 算法原理 | 第53-54页 |
| 4.5.2 成像结果及分析 | 第54-56页 |
| 4.6 牛顿—拉夫逊法 | 第56-59页 |
| 4.6.1 算法原理 | 第56-57页 |
| 4.6.2 成像结果及分析 | 第57-59页 |
| 第五章 电磁层析成像技术非磁性屏蔽优化设计 | 第59-77页 |
| 5.1 EMT 系统屏蔽层的必要性 | 第59-62页 |
| 5.1.1 EMT 系统耦合机制 | 第59-61页 |
| 5.1.2 EMT 系统屏蔽层研究现状 | 第61-62页 |
| 5.2 EMT 系统屏蔽层设计的仿真模型 | 第62-64页 |
| 5.2.1 仿真模型 | 第62-63页 |
| 5.2.2 屏蔽层厚度的设计 | 第63-64页 |
| 5.3 EMT 系统屏蔽层设计基础 | 第64-68页 |
| 5.3.1 优化指标 | 第64-65页 |
| 5.3.2 灵敏度系数矩阵的求解 | 第65页 |
| 5.3.3 正交试验法概述 | 第65-68页 |
| 5.4 EMT 系统屏蔽层设计及优化 | 第68-75页 |
| 5.4.1 屏蔽层高度设计 | 第68-70页 |
| 5.4.2 屏蔽层内径设计 | 第70-72页 |
| 5.4.3 基于正交试验法的屏蔽层优化 | 第72-75页 |
| 5.5 EMT 系统完全屏蔽层必要性研究 | 第75-77页 |
| 第六章 总结与建议 | 第77-79页 |
| 6.1 本论文工作总结 | 第77-78页 |
| 6.2 未来工作展望 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-84页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85页 |
