基于计算机控制小磨头抛光的去除函数理论研究
| 中文摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-18页 |
| 1.1 课题来源及研究的目的和意义 | 第8-10页 |
| 1.1.1 课题的来源 | 第8页 |
| 1.1.2 课题的研究目的及意义 | 第8-10页 |
| 1.2 计算机控制小磨头抛光技术 | 第10-14页 |
| 1.2.1 小磨头抛光技术的起源 | 第10-12页 |
| 1.2.2 小磨头抛光技术的理论基础 | 第12-14页 |
| 1.3 CCOS 技术的国内外发展现状 | 第14-17页 |
| 1.4 论文研究的主要内容 | 第17-18页 |
| 第二章 去除函数建模及特性研究 | 第18-34页 |
| 2.1 行星结构去除函数建模 | 第18-22页 |
| 2.1.1 Preston 假设及理论基础 | 第18-19页 |
| 2.1.2 行星抛光结构去除函数的建模 | 第19-22页 |
| 2.2 去除函数特性研究 | 第22-28页 |
| 2.2.1 偏心率对去除函数的影响 | 第22-25页 |
| 2.2.2 转速比对去除函数的影响 | 第25-28页 |
| 2.3 行星抛光机构去除效率研究 | 第28-29页 |
| 2.4 趋近因子法优化去除函数 | 第29-32页 |
| 2.5 本章小结 | 第32-34页 |
| 第三章 环形抛光盘去除函数建模及特性研究 | 第34-44页 |
| 3.1 环形抛光盘去除函数建模 | 第34-39页 |
| 3.1.1 行星结构下环形抛光盘的去除函数建模 | 第35-37页 |
| 3.1.2 中心孔半径对去除函数的影响 | 第37-39页 |
| 3.1.3 最优化环形抛光盘去除函数 | 第39页 |
| 3.2 行星结构抛光盘磨损特性研究 | 第39-43页 |
| 3.2.1 传统抛光盘磨损特性研究 | 第40-42页 |
| 3.2.2 环形抛光盘的磨损特性研究 | 第42-43页 |
| 3.3 本章总结 | 第43-44页 |
| 第四章 驻留时间算法及残余误差计算 | 第44-60页 |
| 4.1 驻留时间算法 | 第44-49页 |
| 4.1.1 脉冲迭代法 | 第44-45页 |
| 4.1.2 离散矩阵算法 | 第45-47页 |
| 4.1.3 驻留时间算法比较 | 第47-49页 |
| 4.2 去除函数修形能力比较 | 第49-56页 |
| 4.2.1 步进距离对残余误差的影响 | 第52-54页 |
| 4.2.2 抛光盘尺寸对残余误差的影响 | 第54-56页 |
| 4.3 环形抛光加工后的残余误差 | 第56-57页 |
| 4.4 去除函数去除量特性研究 | 第57-58页 |
| 4.5 本章总结 | 第58-60页 |
| 第五章 总结与展望 | 第60-62页 |
| 5.1 结论 | 第60-61页 |
| 5.2 展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-66页 |
| 发表论文情况说明 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
