中文摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
符号说明 | 第9-10页 |
第一章 前言 | 第10-18页 |
1.1 分子印迹技术的基本原理 | 第10-11页 |
1.2 分子印迹聚合物的制备技术 | 第11-12页 |
1.3 分子印迹聚合物的制备方法 | 第12-14页 |
1.4 活性/可控自由基聚合方法 | 第14-16页 |
1.5 选题意义及研究内容 | 第16-18页 |
第二章 分子拥挤试剂下原子转移自由基聚合印迹整体柱的制备和评价 | 第18-43页 |
2.1 引言 | 第18-19页 |
2.2 仪器及试剂 | 第19-21页 |
2.2.1 仪器 | 第19-20页 |
2.2.2 试剂 | 第20-21页 |
2.3 印迹整体柱的制备 | 第21-23页 |
2.4 结果与讨论 | 第23-42页 |
2.4.1 整体柱制备参数的研究 | 第23-31页 |
2.4.2 整体柱色谱参数的研究 | 第31-38页 |
2.4.3 印迹整体柱的表征 | 第38-42页 |
2.5 小结 | 第42-43页 |
第三章 离子液体下可逆加成-断裂链转移聚合制备分子印迹整体柱 | 第43-67页 |
3.1 引言 | 第43-44页 |
3.2 仪器及试剂 | 第44-45页 |
3.2.1 仪器 | 第44页 |
3.2.2 试剂 | 第44-45页 |
3.3 整体柱的制备方法 | 第45-46页 |
3.4 结果与讨论 | 第46-65页 |
3.4.1 整体柱制备参数的研究 | 第46-53页 |
3.4.2 整体柱色谱参数的研究 | 第53-61页 |
3.4.3 印迹整体柱的表征 | 第61-65页 |
3.5 小结 | 第65-67页 |
结论 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-78页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第78-79页 |
综述 | 第79-99页 |
综述参考文献 | 第93-99页 |
致谢 | 第99页 |