摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第9-19页 |
1.1 研究目的与意义 | 第9-10页 |
1.2 研究现状与发展趋势 | 第10-16页 |
1.2.1 相机检校技术概况 | 第10-12页 |
1.2.2 自检校技术的研究现状与发展趋势 | 第12-16页 |
1.3 本文内容及结构安排 | 第16-19页 |
第二章 基于光束法平差的自检校技术 | 第19-45页 |
2.1 摄影测量基础 | 第19-29页 |
2.1.1 常用坐标系 | 第19-21页 |
2.1.2 数字相机成像原理 | 第21-22页 |
2.1.3 数字相机成像模型及其扩展 | 第22-29页 |
2.2 自检校技术的原理与流程 | 第29-36页 |
2.2.1 基本原理 | 第29-30页 |
2.2.2 带有附加参数的平差运算方案 | 第30-31页 |
2.2.3 大规模方程组的解算 | 第31-32页 |
2.2.4 法方程系数矩阵的镶边带状结构与逐次分块约化 | 第32-36页 |
2.3 自检校模型附加参数的选择 | 第36-38页 |
2.4 附加参数的统计检验 | 第38-41页 |
2.4.1 显著性检验 | 第38-39页 |
2.4.2 相关性检验 | 第39页 |
2.4.3 模型误差对平差结果的影响 | 第39-41页 |
2.5 数码相机与POS系统的相对几何检校 | 第41-43页 |
2.6 本章小结 | 第43-45页 |
第三章 基于函数逼近理论的自检校技术及新型勒让德自检校模型的构建 | 第45-67页 |
3.1 函数逼近理论 | 第45-48页 |
3.1.1 范数 | 第46-47页 |
3.1.2 数学基函数 | 第47-48页 |
3.2 勒让德自检校模型 | 第48-56页 |
3.2.1 利用普通多项式做最佳平方逼近 | 第49-50页 |
3.2.2 利用正交多项式做最佳平方逼近 | 第50-52页 |
3.2.3 勒让德自检校模型的构建 | 第52-54页 |
3.2.4 勒让德自检校模型分析 | 第54-56页 |
3.3 勒让德自检校模型试验 | 第56-65页 |
3.3.1 试验数据 | 第56-58页 |
3.3.2 集成传感器系统检校 | 第58-61页 |
3.3.3 自检校光束法平差试验 | 第61-65页 |
3.4 本章小结 | 第65-67页 |
第四章 新型傅立叶自检校模型的构建 | 第67-87页 |
4.1 傅立叶自检校模型 | 第67-72页 |
4.1.1 最佳基函数 | 第67-68页 |
4.1.2 傅立叶自检校模型的构建 | 第68-71页 |
4.1.3 自检校模型的分析与讨论 | 第71-72页 |
4.2 傅立叶自检校模型试验 | 第72-76页 |
4.2.1 傅立叶自检校模型光束法平差试验 | 第72-73页 |
4.2.2 带POS的摄影测量系统检校 | 第73-75页 |
4.2.3 不同条件下傅立叶自检校模型光束法平差精度分析 | 第75-76页 |
4.3 不同自检校模型效果对比 | 第76-84页 |
4.3.1 实际精度 | 第76-78页 |
4.3.2 相关性分析 | 第78-79页 |
4.3.3 三个IO参数及IMU安置参数的检校 | 第79-80页 |
4.3.4 畸变检校 | 第80-82页 |
4.3.5 过度参数化与统计检验 | 第82-84页 |
4.4 本章小结 | 第84-87页 |
第五章 10参数模型改进 | 第87-95页 |
5.110参数自检校模型 | 第87-92页 |
5.1.1 Brown自检校模型 | 第87-89页 |
5.1.2 面外与面内畸变 | 第89-90页 |
5.1.3 相关性分析与模型改进 | 第90-92页 |
5.2 试验数据近景测量试验 | 第92-94页 |
5.3 本章小结 | 第94-95页 |
第六章 总结与展望 | 第95-99页 |
6.1 总结 | 第95-96页 |
6.2 下一步工作展望 | 第96-99页 |
参考文献 | 第99-107页 |
攻读学位期间取得的研究成果 | 第107-109页 |
致谢 | 第109页 |