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摄影测量自检校技术研究

摘要第4-5页
abstract第5-6页
第一章 绪论第9-19页
    1.1 研究目的与意义第9-10页
    1.2 研究现状与发展趋势第10-16页
        1.2.1 相机检校技术概况第10-12页
        1.2.2 自检校技术的研究现状与发展趋势第12-16页
    1.3 本文内容及结构安排第16-19页
第二章 基于光束法平差的自检校技术第19-45页
    2.1 摄影测量基础第19-29页
        2.1.1 常用坐标系第19-21页
        2.1.2 数字相机成像原理第21-22页
        2.1.3 数字相机成像模型及其扩展第22-29页
    2.2 自检校技术的原理与流程第29-36页
        2.2.1 基本原理第29-30页
        2.2.2 带有附加参数的平差运算方案第30-31页
        2.2.3 大规模方程组的解算第31-32页
        2.2.4 法方程系数矩阵的镶边带状结构与逐次分块约化第32-36页
    2.3 自检校模型附加参数的选择第36-38页
    2.4 附加参数的统计检验第38-41页
        2.4.1 显著性检验第38-39页
        2.4.2 相关性检验第39页
        2.4.3 模型误差对平差结果的影响第39-41页
    2.5 数码相机与POS系统的相对几何检校第41-43页
    2.6 本章小结第43-45页
第三章 基于函数逼近理论的自检校技术及新型勒让德自检校模型的构建第45-67页
    3.1 函数逼近理论第45-48页
        3.1.1 范数第46-47页
        3.1.2 数学基函数第47-48页
    3.2 勒让德自检校模型第48-56页
        3.2.1 利用普通多项式做最佳平方逼近第49-50页
        3.2.2 利用正交多项式做最佳平方逼近第50-52页
        3.2.3 勒让德自检校模型的构建第52-54页
        3.2.4 勒让德自检校模型分析第54-56页
    3.3 勒让德自检校模型试验第56-65页
        3.3.1 试验数据第56-58页
        3.3.2 集成传感器系统检校第58-61页
        3.3.3 自检校光束法平差试验第61-65页
    3.4 本章小结第65-67页
第四章 新型傅立叶自检校模型的构建第67-87页
    4.1 傅立叶自检校模型第67-72页
        4.1.1 最佳基函数第67-68页
        4.1.2 傅立叶自检校模型的构建第68-71页
        4.1.3 自检校模型的分析与讨论第71-72页
    4.2 傅立叶自检校模型试验第72-76页
        4.2.1 傅立叶自检校模型光束法平差试验第72-73页
        4.2.2 带POS的摄影测量系统检校第73-75页
        4.2.3 不同条件下傅立叶自检校模型光束法平差精度分析第75-76页
    4.3 不同自检校模型效果对比第76-84页
        4.3.1 实际精度第76-78页
        4.3.2 相关性分析第78-79页
        4.3.3 三个IO参数及IMU安置参数的检校第79-80页
        4.3.4 畸变检校第80-82页
        4.3.5 过度参数化与统计检验第82-84页
    4.4 本章小结第84-87页
第五章 10参数模型改进第87-95页
    5.110参数自检校模型第87-92页
        5.1.1 Brown自检校模型第87-89页
        5.1.2 面外与面内畸变第89-90页
        5.1.3 相关性分析与模型改进第90-92页
    5.2 试验数据近景测量试验第92-94页
    5.3 本章小结第94-95页
第六章 总结与展望第95-99页
    6.1 总结第95-96页
    6.2 下一步工作展望第96-99页
参考文献第99-107页
攻读学位期间取得的研究成果第107-109页
致谢第109页

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