摘要 | 第6-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第1章 绪论 | 第13-23页 |
1.1 镁及其合金的特点与应用 | 第13-15页 |
1.1.1 镁及其合金 | 第13页 |
1.1.2 稀土镁合金 | 第13-14页 |
1.1.3 镁及其合金的应用 | 第14-15页 |
1.2 镁合金的表面处理技术 | 第15-17页 |
1.2.1 化学氧化 | 第15页 |
1.2.2 金属涂镀 | 第15-16页 |
1.2.3 有机涂层 | 第16页 |
1.2.4 阳极氧化 | 第16页 |
1.2.5 微弧氧化 | 第16页 |
1.2.6 其它技术 | 第16-17页 |
1.3 微弧氧化技术及研究现状 | 第17页 |
1.4 镁合金的微弧氧化处理 | 第17-21页 |
1.4.1 镁合金微弧氧化电解液体系 | 第17-18页 |
1.4.2 镁合金微弧氧化电参数 | 第18-19页 |
1.4.3 镁合金微弧氧化添加剂 | 第19-21页 |
1.5 课题的研究目的及创新性 | 第21页 |
1.6 课题的研究内容 | 第21-23页 |
第2章 实验材料与研究方法 | 第23-29页 |
2.1 实验材料与装置 | 第23-24页 |
2.1.1 实验材料与化学试剂 | 第23页 |
2.1.2 微弧氧化设备 | 第23-24页 |
2.2 微弧氧化复合陶瓷膜制备 | 第24-25页 |
2.2.1 试样表面预处理 | 第24页 |
2.2.2 电解液配制 | 第24页 |
2.2.3 微弧氧化工艺流程 | 第24-25页 |
2.3 微弧氧化工艺研究 | 第25-26页 |
2.3.1 基础电解液体系的选择 | 第25页 |
2.3.2 复合电解液体系的优化 | 第25页 |
2.3.3 最佳电参数的优化 | 第25-26页 |
2.4 陶瓷膜层评定检测方法 | 第26-29页 |
2.4.1 陶瓷膜层厚度测定 | 第26-27页 |
2.4.2 陶瓷膜层微观形貌组织检测分析 | 第27页 |
2.4.3 陶瓷膜层耐蚀性能检测 | 第27-29页 |
第3章 微弧氧化工艺研究 | 第29-45页 |
3.1 基体的选择 | 第29-31页 |
3.1.1 金相分析 | 第29-30页 |
3.1.2 耐蚀性能的比较 | 第30-31页 |
3.2 基础电解液的确定 | 第31-36页 |
3.2.1 不同电解液体系浓度的选择 | 第31-33页 |
3.2.2 不同电解液体系陶瓷膜层的微观组织比较 | 第33-35页 |
3.2.3 不同电解液体系陶瓷膜层的耐蚀性能比较 | 第35-36页 |
3.3 复合电解液的优化 | 第36-40页 |
3.3.1 复合电解液体系添加剂的选择 | 第36-37页 |
3.3.2 复合电解液体系浓度的优化 | 第37-40页 |
3.4 工艺参数的优化 | 第40-43页 |
3.5 本章小结 | 第43-45页 |
第4章 TiO_2/MgO复合陶瓷膜层的制备 | 第45-61页 |
4.1 电解液中添加K_2TiF_6对陶瓷膜层的影响 | 第45-53页 |
4.1.1 K_2TiF_6加入量对陶瓷膜层表面形貌的影响 | 第45-47页 |
4.1.2 K_2TiF_6加入量对陶瓷膜层截面形貌及膜层厚度的影响 | 第47-48页 |
4.1.3 K_2TiF_6加入量对陶瓷膜层表面成分及钛元素分布的影响 | 第48-50页 |
4.1.4 K_2TiF_6加入量对陶瓷膜层相组成的影响 | 第50页 |
4.1.5 K_2TiF_6加入量对陶瓷膜层电化学分析的影响 | 第50-53页 |
4.2 电解液中添加TiO_2对陶瓷膜层微观组织的影响 | 第53-59页 |
4.2.1 TiO_2加入量对陶瓷膜层表面形貌的影响 | 第53-55页 |
4.2.2 TiO_2加入量对陶瓷膜层截面形貌及膜层厚度的影响 | 第55-56页 |
4.2.3 TiO_2加入量对陶瓷膜层钛元素分布的影响 | 第56-57页 |
4.2.4 TiO_2加入量对陶瓷膜层相组成的影响 | 第57-58页 |
4.2.5 TiO_2加入量对陶瓷膜层电化学分析的影响 | 第58-59页 |
4.3 本章小结 | 第59-61页 |
第5章 复合陶瓷膜层耐蚀性能研究 | 第61-67页 |
5.1 复合陶瓷膜层电化学分析检测 | 第61-62页 |
5.2 腐蚀失重实验 | 第62-63页 |
5.3 腐蚀液浸泡实验 | 第63-66页 |
5.4 本章小结 | 第66-67页 |
结论 | 第67-69页 |
参考文献 | 第69-75页 |
攻读硕士学位期间发表的论文和获得的科研成果 | 第75-76页 |
致谢 | 第76-77页 |