TC4钛合金熔盐电解法渗硼的研究
| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 钛的基本性质 | 第10页 |
| 1.1.1 钛的物理性质 | 第10页 |
| 1.1.2 钛的化学性质 | 第10页 |
| 1.2 钛合金的分类及性质 | 第10-12页 |
| 1.2.1 合金元素的分类 | 第10页 |
| 1.2.2 钛合金的分类 | 第10-11页 |
| 1.2.3 钛合金的性质 | 第11-12页 |
| 1.3 钛合金的应用及不足 | 第12-14页 |
| 1.3.1 钛合金的应用 | 第12-13页 |
| 1.3.2 钛合金使用中的不足 | 第13-14页 |
| 1.4 钛合金的表面强化技术 | 第14-16页 |
| 1.4.1 渗氮 | 第14页 |
| 1.4.2 渗碳 | 第14-15页 |
| 1.4.3 等离子喷涂 | 第15页 |
| 1.4.4 离子注入 | 第15-16页 |
| 1.4.5 气相沉积 | 第16页 |
| 1.4.6 激光熔覆 | 第16页 |
| 1.5 钛合金渗硼技术的应用及发展 | 第16-20页 |
| 1.5.1 渗硼工艺的发展 | 第16-17页 |
| 1.5.2 钛合金主要渗硼工艺 | 第17-19页 |
| 1.5.3 熔盐电解渗硼的成果 | 第19-20页 |
| 1.6 本课题的意义及内容 | 第20-22页 |
| 1.6.1 本课题的意义 | 第20页 |
| 1.6.2 本课题研究的主要内容 | 第20-22页 |
| 2 实验设计 | 第22-28页 |
| 2.1 实验材料 | 第22-23页 |
| 2.1.1 材料尺寸与化学成分 | 第22页 |
| 2.1.2 实验试剂 | 第22页 |
| 2.1.3 实验的主要仪器设备 | 第22-23页 |
| 2.2 渗硼设备及实验流程 | 第23-24页 |
| 2.2.1 渗硼设备 | 第23页 |
| 2.2.2 实验路线图 | 第23-24页 |
| 2.3 物性表征方法 | 第24页 |
| 2.4 渗硼层表面硬度的测量 | 第24-25页 |
| 2.5 熔盐检测 | 第25页 |
| 2.6 实验预处理 | 第25-26页 |
| 2.6.1 钛合金试样的预处理 | 第25-26页 |
| 2.6.2 渗硼试剂的预处理 | 第26页 |
| 2.7 渗硼后试样处理及检测 | 第26-28页 |
| 2.7.1 渗硼后试样的处理 | 第26页 |
| 2.7.2 渗硼试样检测 | 第26-28页 |
| 3 TC4钛合金熔盐电解法渗硼的研究 | 第28-62页 |
| 3.1 熔盐热分析 | 第28-32页 |
| 3.1.1 DSC分析 | 第28-30页 |
| 3.1.2 TG分析 | 第30-32页 |
| 3.2 电流密度对渗层的影响 | 第32-44页 |
| 3.2.1 渗层表面的物相分析 | 第32-35页 |
| 3.2.2 渗层截面的形貌分析 | 第35-38页 |
| 3.2.3 渗层截面的EDS分析 | 第38-42页 |
| 3.2.4 渗层截面的线扫描 | 第42-43页 |
| 3.2.5 渗层表面硬度检测 | 第43-44页 |
| 3.3 通电时间对渗层的影响 | 第44-53页 |
| 3.3.1 渗层表面的物相分析 | 第44-45页 |
| 3.3.2 渗层截面的形貌分析 | 第45-47页 |
| 3.3.3 渗层截面的EDS分析 | 第47-51页 |
| 3.3.4 渗层截面线扫描 | 第51-53页 |
| 3.3.5 渗层硬度检测 | 第53页 |
| 3.4 温度对渗层的影响 | 第53-59页 |
| 3.4.1 渗层表面的物相分析 | 第54-55页 |
| 3.4.2 渗层截面的形貌分析 | 第55-56页 |
| 3.4.3 渗层截面的EDS分析 | 第56-59页 |
| 3.4.4 渗层硬度检测 | 第59页 |
| 3.5 本章小结 | 第59-62页 |
| 4 实验机理探讨 | 第62-68页 |
| 4.1 渗硼原理探讨 | 第62页 |
| 4.2 Ti-B体系的分析 | 第62-63页 |
| 4.3 反应过程分析 | 第63-65页 |
| 4.4 渗硼的热力学分析 | 第65-68页 |
| 5 结论及建议 | 第68-70页 |
| 5.1 结论 | 第68页 |
| 5.2 建议 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第78页 |
