冰粒型固结磨具抛光锗单晶片的基础研究
摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5页 |
第一章 绪论 | 第14-24页 |
1.1 引言 | 第14页 |
1.2 单晶锗的研究现状 | 第14-17页 |
1.2.1 单晶锗的特性 | 第14-15页 |
1.2.2 锗单晶片的制备与应用 | 第15-16页 |
1.2.3 锗单晶片的加工工艺 | 第16-17页 |
1.3 抛光技术的研究现状 | 第17-20页 |
1.3.1 化学机械抛光技术 | 第17页 |
1.3.2 固结磨料化学机械抛光技术 | 第17-19页 |
1.3.3 低温抛光技术 | 第19-20页 |
1.4 低温抛光技术中的关键问题 | 第20-21页 |
1.4.1 抛光过程中的温度场研究 | 第20页 |
1.4.2 抛光过程中的面型控制研究 | 第20-21页 |
1.5 本文研究的目的、意义与主要内容 | 第21-24页 |
1.5.1 目的与意义 | 第21-22页 |
1.5.2 研究的主要内容 | 第22-24页 |
第二章 冰粒型固结磨具抛光锗单晶片的温度场研究 | 第24-37页 |
2.1 引言 | 第24页 |
2.2 抛光温度场有限元模型 | 第24-28页 |
2.2.1 几何模型 | 第24-25页 |
2.2.2 定义材料属性 | 第25页 |
2.2.3 边界条件的确定 | 第25-26页 |
2.2.4 网格划分 | 第26-27页 |
2.2.5 抛光温度场计算流程 | 第27-28页 |
2.3 抛光温度场模型的验证实验 | 第28-30页 |
2.3.1 温度测量系统介绍 | 第28页 |
2.3.2 验证实验设计 | 第28-29页 |
2.3.3 验证实验结果与分析 | 第29-30页 |
2.4 抛光温度场的仿真结果与分析 | 第30-35页 |
2.4.1 抛光时间对抛光温度场的影响 | 第30-32页 |
2.4.2 初始温度对抛光温度场的影响 | 第32页 |
2.4.3 环境温度对抛光温度场的影响 | 第32-34页 |
2.4.4 气缸压力对抛光温度场的影响 | 第34-35页 |
2.4.5 抛光盘转速对抛光温度场的影响 | 第35页 |
2.5 本章小结 | 第35-37页 |
第三章 冰粒型固结磨具抛光锗单晶片的面型控制研究 | 第37-53页 |
3.1 引言 | 第37页 |
3.2 抛光系统的受力分析 | 第37-42页 |
3.2.1 工件转动的摩擦动力矩计算[62] | 第37-39页 |
3.2.2 压头与承载器之间的摩擦阻力矩计算 | 第39-41页 |
3.2.3 工件转速的理论计算 | 第41-42页 |
3.3 抛光速度场研究 | 第42-45页 |
3.3.1 速度场的理论分析 | 第42-43页 |
3.3.2 速度场分布结果与讨论 | 第43-45页 |
3.4 抛光应力场研究 | 第45-49页 |
3.4.1 加载方式对抛光应力场的影响 | 第46页 |
3.4.2 气缸压力对抛光应力场的影响 | 第46-47页 |
3.4.3 环境温度对抛光应力场的影响 | 第47-48页 |
3.4.4 承载器厚度对抛光应力场的影响 | 第48-49页 |
3.5 接触应力分布的测量 | 第49-50页 |
3.5.1 实验测量方法 | 第49页 |
3.5.2 验证实验结果分析 | 第49-50页 |
3.6 面型测试结果分析 | 第50-52页 |
3.6.1 测量设备简介 | 第50-51页 |
3.6.2 实验结果分析 | 第51-52页 |
3.7 本章小结 | 第52-53页 |
第四章 冰粒型固结磨具抛光锗单晶片的工艺研究 | 第53-65页 |
4.1 引言 | 第53页 |
4.2 冰粒型固结磨具的制备 | 第53-54页 |
4.2.1 冰粒的制备 | 第53-54页 |
4.2.2 抛光磨具的成型 | 第54页 |
4.3 抛光对比实验研究 | 第54-57页 |
4.3.1 实验仪器与材料 | 第54-55页 |
4.3.2 对比实验结果分析 | 第55-57页 |
4.4 粗抛实验研究 | 第57-61页 |
4.4.1 粗抛实验设计 | 第57-58页 |
4.4.2 粗抛实验结果分析 | 第58-61页 |
4.5 精抛实验研究 | 第61-64页 |
4.5.1 精抛实验设计 | 第61页 |
4.5.2 精抛实验结果分析 | 第61-64页 |
4.6 本章小结 | 第64-65页 |
第五章 总结与展望 | 第65-67页 |
5.1 总结 | 第65-66页 |
5.2 展望 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-71页 |
致谢 | 第71-72页 |
在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第72页 |