| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-36页 |
| 1.1 超导简介 | 第12-14页 |
| 1.2 超导材料的应用与发展前景 | 第14-19页 |
| 1.2.1 超导材料的应用 | 第14-15页 |
| 1.2.2 超导材料的具体应用 | 第15-18页 |
| 1.2.3 超导材料的发展前景 | 第18-19页 |
| 1.3 高温超导带材的研究进展与热点问题 | 第19-23页 |
| 1.3.1 国内外高温超导带材的研究进展 | 第19-22页 |
| 1.3.2 超导带材的热点研究问题 | 第22-23页 |
| 1.4 涂层导体的制备 | 第23-33页 |
| 1.4.1 金属基底的选择与制备 | 第25-27页 |
| 1.4.2 缓冲层的选择与制备方法 | 第27-30页 |
| 1.4.3 YBCO超导层的制备 | 第30-33页 |
| 1.5 本文的研究目的、意义及内容 | 第33-36页 |
| 1.5.1 研究背景、目的及意义 | 第33-34页 |
| 1.5.2 本文的主要研究内容 | 第34-36页 |
| 第2章 MOD法在Ni-W基带上制备La_(0.4)Sr_(0.6)TiO_3导电缓冲层的研究 | 第36-59页 |
| 2.1 引言 | 第36-38页 |
| 2.1.1 LSTO的结构与导电性能 | 第36-37页 |
| 2.1.2 LSTO的研究现状 | 第37-38页 |
| 2.2 实验原料及仪器 | 第38-39页 |
| 2.3 前期实验 | 第39-41页 |
| 2.3.1 金属基带的清洗 | 第39-40页 |
| 2.3.2 前驱液的配制与涂覆 | 第40-41页 |
| 2.4 旋涂法LSTO缓冲层制备工艺研究 | 第41-53页 |
| 2.4.1 STO种子层的制备 | 第41页 |
| 2.4.2 结晶成相温度的确定 | 第41-44页 |
| 2.4.3 热处理气氛对LSTO缓冲层的影响 | 第44-45页 |
| 2.4.4 烧结时间对LSTO缓冲层的影响 | 第45-46页 |
| 2.4.5 降温速率对LSTO缓冲层的影响 | 第46-48页 |
| 2.4.6 不同种子层对LSTO缓冲层的影响 | 第48-51页 |
| 2.4.7 种子层浓度对LSTO缓冲层的影响 | 第51-53页 |
| 2.5 浸涂法制备LSTO缓冲层 | 第53-57页 |
| 2.5.1 浸涂法制备LSTO缓冲层的X射线表征 | 第54-55页 |
| 2.5.2 浸涂法制备LSTO缓冲层的正反面一致性比较 | 第55-57页 |
| 2.6 薄膜导电性能测试 | 第57页 |
| 2.7 本章小结 | 第57-59页 |
| 第3章 化学法制备YBCO超导材料合成动力学分析 | 第59-73页 |
| 3.1 引言 | 第59-60页 |
| 3.2 实验前期准备 | 第60-61页 |
| 3.2.1 实验原料与仪器 | 第60页 |
| 3.2.2 无氟YBCO前驱液的配置 | 第60-61页 |
| 3.3 无氟MOD法制备YBCO合成过程动力学研究 | 第61-69页 |
| 3.3.1 化学合成反应过程分析 | 第61-63页 |
| 3.3.2 YBCO合成反应机理函数的推导 | 第63-67页 |
| 3.3.3 YBCO合成反应活化能的推导 | 第67-68页 |
| 3.3.4 合理反应时间的推导 | 第68-69页 |
| 3.4 有机物热分解时间 | 第69-71页 |
| 3.5 本章小结 | 第71-73页 |
| 第4章 无氟MOD法制备YBCO超导层 | 第73-98页 |
| 4.1 引言 | 第73页 |
| 4.2 实验原料 | 第73页 |
| 4.3 无氟MOD法制备YBCO超导薄膜 | 第73-79页 |
| 4.3.1 LSTO单缓冲层上外延生长YBCO超导层 | 第73-77页 |
| 4.3.2 LSTO缓冲层厚度与YBCO超导层外延生长 | 第77-78页 |
| 4.3.3 在提拉法制备的LSTO缓冲层上沉积YBCO超导层 | 第78-79页 |
| 4.4 氧化机理分析 | 第79-82页 |
| 4.5 Ni-W基带上复合缓冲层的制备 | 第82-90页 |
| 4.5.1 Ni-W基带上几种单缓冲层的制备 | 第82-87页 |
| 4.5.2 复合缓冲层的制备 | 第87-90页 |
| 4.6 金属基带氧化的防治方法探索 | 第90-96页 |
| 4.6.1 利用复合缓冲层阻止基带氧化 | 第90-92页 |
| 4.6.2 结合PLD法与MOD法制备复合缓冲层抗氧化 | 第92-95页 |
| 4.6.3 增加YBCO膜的厚度以延长氧扩散时间 | 第95-96页 |
| 4.7 本章小结 | 第96-98页 |
| 第5章 金属基带上YBCO超导厚膜的电化学工艺研究 | 第98-131页 |
| 5.1 电泳简介 | 第98-100页 |
| 5.2 实验原料及仪器 | 第100-101页 |
| 5.2.1 实验原料 | 第100-101页 |
| 5.2.2 实验仪器 | 第101页 |
| 5.3 超细YBCO粉末的制备 | 第101-105页 |
| 5.4 Ni-W基带上电泳法制备YBCO超导厚膜的工艺研究 | 第105-117页 |
| 5.4.1 YBCO超导涂层的电泳沉积 | 第105页 |
| 5.4.2 烧结温度的确定 | 第105-108页 |
| 5.4.3 烧结时间对YBCO厚膜性能的影响 | 第108-109页 |
| 5.4.4 降温速率与YBCO沉积质量的关系 | 第109-111页 |
| 5.4.5 电泳电压对YBCO厚膜的影响 | 第111-113页 |
| 5.4.6 电泳时间对YBCO厚膜性能的影响 | 第113-115页 |
| 5.4.7 I_2添加量对YBCO厚膜性能的影响 | 第115-117页 |
| 5.5 电泳法在哈氏合金基带上制备YBCO超导膜工艺研究 | 第117-129页 |
| 5.5.1 哈氏合金基带的预处理 | 第118-120页 |
| 5.5.2 哈氏合金基底上YBCO电泳实验 | 第120页 |
| 5.5.3 电泳法在哈氏合金基带上制备YBCO超导膜 | 第120-129页 |
| 5.6 本章小结 | 第129-131页 |
| 第6章 结论 | 第131-133页 |
| 参考文献 | 第133-147页 |
| 致谢 | 第147-148页 |
| 攻读博士学位期间获得的科研成果 | 第148-150页 |
| 作者简介 | 第150页 |
