TiAlSi复合阴极放电及成膜工艺研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 课题背景及研究目的和意义 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第10-19页 |
| 1.2.1 超硬涂层发展历程 | 第10-15页 |
| 1.2.2 等离子体浸没离子注入与沉积技术 | 第15-17页 |
| 1.2.3 电磁冷坩埚熔炼技术 | 第17-19页 |
| 1.3 本文研究内容 | 第19-21页 |
| 第2章 实验材料、设备及方法 | 第21-26页 |
| 2.1 实验材料 | 第21页 |
| 2.2 实验设备 | 第21-23页 |
| 2.2.1 电磁冷坩埚熔炼设备 | 第22页 |
| 2.2.2 质谱仪 | 第22页 |
| 2.2.3 等离子体浸没离子注入与沉积设备 | 第22-23页 |
| 2.3 实验方法 | 第23-24页 |
| 2.3.1 水冷铜坩埚熔炼TiAlSi阴极 | 第23-24页 |
| 2.3.2 TiAlSi阴极放电特性测试 | 第24页 |
| 2.3.3 TiAlSiN涂层制备 | 第24页 |
| 2.4 分析测试方法 | 第24-26页 |
| 2.4.1 金相组织分析 | 第24页 |
| 2.4.2 X射线衍射分析（XRD） | 第24页 |
| 2.4.3 扫描电子显微镜分析（SEM） | 第24-25页 |
| 2.4.4 显微硬度分析 | 第25页 |
| 2.4.5 纳米压痕 | 第25-26页 |
| 第3章 TiAlSi靶制备及性能测试 | 第26-39页 |
| 3.1 TiAlSi阴极靶材制备 | 第26-30页 |
| 3.1.1 熔炼工艺 | 第26-29页 |
| 3.1.2 熔炼时间对产物成分均匀性的影响 | 第29-30页 |
| 3.2 TiAlSi熔炼产物的成分及性能测试 | 第30-37页 |
| 3.2.1 金相组织 | 第30-32页 |
| 3.2.2 成分组成 | 第32-36页 |
| 3.2.3 物相组成 | 第36-37页 |
| 3.2.4 显微硬度 | 第37页 |
| 3.3 本章小结 | 第37-39页 |
| 第4章 TiAlSi阴极放电等离子体特性测试 | 第39-53页 |
| 4.1 阴极成分对等离子体的影响 | 第40-46页 |
| 4.2 电流对等离子体的影响 | 第46-49页 |
| 4.3 气压对等离子体的影响 | 第49-52页 |
| 4.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 第5章 TiAlSiN涂层制备工艺 | 第53-62页 |
| 5.1 TiAlSiN涂层制备 | 第53-55页 |
| 5.2 TiAlSiN涂层成分分析 | 第55-58页 |
| 5.3 TiAlSiN涂层表面形貌 | 第58-59页 |
| 5.4 TiAlSiN涂层纳米压痕 | 第59-60页 |
| 5.5 本章小结 | 第60-62页 |
| 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
