| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 引言 | 第10-12页 |
| 1.2 磁控溅射技术与薄膜材料 | 第12-14页 |
| 1.2.1 磁控溅射技术 | 第12-13页 |
| 1.2.2 薄膜材料的广泛应用 | 第13-14页 |
| 1.3 薄膜的力学性能 | 第14-15页 |
| 1.3.1 薄膜的内应力 | 第14页 |
| 1.3.2 硬度、模量、韧性等力学性质 | 第14-15页 |
| 1.3.3 表面与界面涂层的力学性质需求 | 第15页 |
| 1.4 抗高温保护涂层 | 第15-18页 |
| 1.5 选题依据及研究内容 | 第18-23页 |
| 1.5.1 高温轻质结构材料 | 第18-19页 |
| 1.5.2 SiC与镍的界面扩散反应 | 第19-23页 |
| 第二章 钇氧化物薄膜的制备与表征 | 第23-36页 |
| 2.1 样品的制备 | 第23-26页 |
| 2.1.1 磁控溅射工作原理 | 第23-24页 |
| 2.1.2 薄膜的生长 | 第24-25页 |
| 2.1.3 实验装置 | 第25-26页 |
| 2.1.4 样品制备 | 第26页 |
| 2.2 热处理 | 第26-28页 |
| 2.2.1 热处理设备与过程 | 第26-28页 |
| 2.3 样品表征 | 第28-36页 |
| 2.3.1 微观结构表征 | 第28-29页 |
| 2.3.2 元素含量表征 | 第29-32页 |
| 2.3.3 性能测试 | 第32-36页 |
| 第三章 沉积条件及真空退火对钇氧化物薄膜相结构的影响 | 第36-58页 |
| 3.1 引言 | 第36-38页 |
| 3.2 氧浓度对相结构的影响 | 第38-44页 |
| 3.3 基片偏压对相结构的影响 | 第44-45页 |
| 3.4 基片温度对相结构的影响 | 第45-56页 |
| 3.4.1 引言 | 第45-47页 |
| 3.4.2 元素含量分析——氧空位的存在 | 第47-51页 |
| 3.4.3 氧空位对相变和相稳定性的作用 | 第51-56页 |
| 3.5 本章小结 | 第56-58页 |
| 第四章 薄膜力学性质的影响因素及优化 | 第58-67页 |
| 4.1 引言 | 第58页 |
| 4.2 结晶优化与钉扎效应 | 第58-59页 |
| 4.3 应力强化作用与相界的强化作用 | 第59-66页 |
| 4.4 本章小结 | 第66-67页 |
| 结论 | 第67-68页 |
| 附注 | 第68-69页 |
| 硕士期间发表的研究成果 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-79页 |
| 致谢 | 第79页 |