超导量子器件制备及工艺研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪言 | 第13-18页 |
| 1.1 历史背景 | 第13-14页 |
| 1.2 超导量子比特 | 第14-15页 |
| 1.3 腔量子电动力学和电路量子电动力学 | 第15-16页 |
| 1.4 小结 | 第16-18页 |
| 第二章 约瑟夫森参量放大器理论 | 第18-32页 |
| 2.1 参量放大原理 | 第18-20页 |
| 2.2 约瑟夫森效应 | 第20-22页 |
| 2.3 直流超导量子干涉器 | 第22-24页 |
| 2.4 共面波导谐振腔 | 第24-30页 |
| 2.4.1 λ/4谐振腔性质 | 第24-27页 |
| 2.4.2 谐振腔与外界耦合 | 第27-29页 |
| 2.4.3 LC振荡电路的量子化 | 第29-30页 |
| 2.5 量子极限下参量放大器的噪声分析 | 第30-32页 |
| 第三章 参量放大器制备 | 第32-48页 |
| 3.1 共面波导谐振腔制备 | 第32-43页 |
| 3.1.1 剥离工艺制备谐振腔 | 第32-33页 |
| 3.1.2 刻蚀工艺制备谐振腔 | 第33-36页 |
| 3.1.3 一次光刻制备参量放大器 | 第36-43页 |
| 3.2 参量放大器测量线路和测量结果 | 第43-48页 |
| 3.2.1 稀释制冷机 | 第43-45页 |
| 3.2.2 磁场偏置下对谐振腔的影响 | 第45-46页 |
| 3.2.3 外加泵浦信号时增益 | 第46-48页 |
| 第四章 约瑟夫森结工艺改进 | 第48-55页 |
| 4.1 工艺原理简述 | 第49页 |
| 4.2 工艺流程 | 第49-54页 |
| 4.3 三维Transmon样品测量结果 | 第54-55页 |
| 第五章 总结与展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 简历与科研成果 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
