| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-14页 |
| 1.1 前言 | 第8页 |
| 1.2 介孔材料的简介 | 第8-10页 |
| 1.3 钛酸锶的基本性质及研究现状 | 第10-12页 |
| 1.3.1 钛酸锶的基本性质 | 第10页 |
| 1.3.2 钛酸锶光催化剂的可控生长研究现状 | 第10-11页 |
| 1.3.3 钛酸锶改性研究 | 第11-12页 |
| 1.4 光催化剂可控生长的意义 | 第12页 |
| 1.5 本课题研究内容、研究方法、创新点 | 第12-14页 |
| 1.5.1 研究内容 | 第12-13页 |
| 1.5.2 研究方法 | 第13页 |
| 1.5.3 课题研究的创新点 | 第13-14页 |
| 第2章 实验仪器与方法 | 第14-19页 |
| 2.1 实验药品及器材 | 第14-15页 |
| 2.1.1 实验药品 | 第14-15页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第15页 |
| 2.2 样品的制备 | 第15-16页 |
| 2.2.1 CMC-STO的制备 | 第15页 |
| 2.2.2 CTAB-STO的制备 | 第15-16页 |
| 2.2.3 掺杂Ag和Fe的STO制备 | 第16页 |
| 2.2.4 非晶Pd-Ni-P修饰STO的制备 | 第16页 |
| 2.3 有机物降解评价方法 | 第16-17页 |
| 2.4 材料表征及分析方法 | 第17-19页 |
| 2.4.1 X射线衍射晶相分析 | 第17页 |
| 2.4.2 扫描电子显微镜形貌分析 | 第17-18页 |
| 2.4.3 X射线光电子能谱对表面元素分析 | 第18页 |
| 2.4.4 傅里叶变换红外光谱对表面官能团分析 | 第18页 |
| 2.4.5 氮气吸脱附曲线测试 | 第18页 |
| 2.4.6 禁带宽度分析 | 第18页 |
| 2.4.7 循环伏安测试 | 第18-19页 |
| 第3章 STO比表面积及孔径的可控生长及光催化性能研究 | 第19-36页 |
| 3.1 水热法制备立方介孔STO | 第19-21页 |
| 3.2 羧甲基纤维素钠(CMC-NA)控制介孔STO生长 | 第21-28页 |
| 3.2.1 不同CMC加量控制介孔STO生长 | 第21-24页 |
| 3.2.2 CMC-STO的生长机理 | 第24-25页 |
| 3.2.3 不同CMC-STO的光催化性能比较 | 第25-26页 |
| 3.2.4 CMC-STO选择降解二元染料的研究 | 第26-28页 |
| 3.3 十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)控制微孔STO生长 | 第28-34页 |
| 3.3.1 不同CTAB加量控制微孔STO生长 | 第28-30页 |
| 3.3.2 CTAB-STO的生长机理 | 第30-31页 |
| 3.3.3 不同CTAB-STO的光催化性能比较 | 第31-32页 |
| 3.3.4 CTAB-STO选择降解二元染料的研究 | 第32-34页 |
| 3.4 本章小结 | 第34-36页 |
| 第4章 STO改性研究 | 第36-43页 |
| 4.1 掺杂调控介孔STO带隙生长 | 第36-38页 |
| 4.1.1 Ag和Fe掺杂调控STO带隙 | 第36-37页 |
| 4.1.2 光催化降解性能研究 | 第37-38页 |
| 4.2 Pd-Ni-P三元合金修饰STO研究 | 第38-42页 |
| 4.2.1 Pd-Ni-P修饰STO的表面分析 | 第39-41页 |
| 4.2.2 Pd-Ni-P修饰对STO带隙的影响 | 第41页 |
| 4.2.3 光催化降解性能研究 | 第41-42页 |
| 4.3 本章小结 | 第42-43页 |
| 第5章 STO降解染料机理研究 | 第43-57页 |
| 5.1 STO降解一元染料的研究 | 第43-50页 |
| 5.1.1 降解反应条件的研究 | 第43-47页 |
| 5.1.2 染料分子的影响因素研究 | 第47-49页 |
| 5.1.3 STO降解染料的活性物种探究 | 第49-50页 |
| 5.2 STO降解二元染料的研究 | 第50-55页 |
| 5.2.1 不同pH环境对降解的影响 | 第51-53页 |
| 5.2.2 降解模型研究 | 第53-54页 |
| 5.2.3 偏向降解的研究 | 第54-55页 |
| 5.3 本章小结 | 第55-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-66页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及科研成果 | 第66页 |
